特許
J-GLOBAL ID：200903063125607184
水素分離膜およびその製造法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
吉田 俊夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-196228
公開番号（公開出願番号）：特開平8-038864
出願日： 1994年07月29日
公開日（公表日）： 1996年02月13日
要約：
【要約】【目的】 SiO2薄膜を水素選択透過膜とする水素分離膜であって、水素透過選択性および水素透過速度の点においてすぐれ、しかも高温の大気中や水蒸気中でも劣化することなく安定な水素分離膜およびその製造法を提供する。【構成】 細孔内にSiO2を担持させた多孔質セラミックス膜よりなる水素分離膜が、多孔質セラミックス膜の両側に圧力差を設け、気化させたSiO2を多孔質セラミックス膜の細孔内に吸引しながらそこでSiO2化させ、細孔内に担持させて膜の外表面側をSiO2薄膜で閉塞させることにより製造される。SiO2の担持は、SiO2源としてテトラ低級アルコキシシランを用い、CVD法によって行われることが好ましい。
請求項（抜粋）：
細孔内にSiO2を担持させ、膜の外表面側をSiO2薄膜で閉塞した多孔質セラミックス膜よりなる水素分離膜。
IPC (2件)：
B01D 71/02 500
, C01B 3/50
