特許

J-GLOBAL ID：200903063130011966

新規なポリマ-及びフォトレジスト組成物

発明者： ゲイリー・エヌ・テイラー ,  チャールズ・アール・スズマンダ
出願人/特許権者： シップレーカンパニー エル エル シー
代理人 (1件)： 佐伯 憲生
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-349241
公開番号（公開出願番号）：特開平11-240919
出願日： 1998年11月04日
公開日（公表日）： 1999年09月07日
要約：

【要約】【課題】 本発明は、新規のポリマー(重合体)と、このようなポリマーを樹脂バインダー成分として含む化学増幅型のポジ型フォトレジスト組成物を提供するものである。【解決手段】 本発明の好ましいポリマーは、ポリマーの酸不安定(不安定)部分を効果的に脱保護するために温度を下げることができる1つ或はそれ以上の構造基を含むものである。

請求項（抜粋）：

ポリマーが実質的に芳香属基を含まず、かつ、ポリマーに懸垂されている酸不安定基(置換活性基)を有し、該酸不安定基が、置換基を有してもよいイソボルニル基、置換基を有してもよいフェンキル基、置換基を有してもよいピネニル基、置換基を有してもよい3,2,0架橋系基、置換基を有してもよい2,2,1架橋系基、置換基を有してもよい複素脂環式基、置換基を有してもよい3或は4の環状炭素原子を有するシクロアルキル基、又は、置換基を有してもよいアルケニル基のいずれかからなるものであるポリマー、及び、光酸発生化合物からなるポジ型のフォトレジスト組成物。

IPC (4件)：

C08F220/16 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

C08F220/16 ,  G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 放射線感光材料及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-276597   出願人：富士通株式会社
• 特開平4-355761
  
• 感光性材料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-185046   出願人：株式会社東芝
• 感光性組成物及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-000971   出願人：ソニー株式会社