特許
J-GLOBAL ID：200903001265675761
放射線感光材料及びパターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
北野 好人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-276597
公開番号（公開出願番号）：特開平7-234511
出願日： 1994年11月10日
公開日（公表日）： 1995年09月05日
要約：
【要約】【目的】本発明は、エキシマレーザを露光源とするリソグラフィにおいて使用する、優れた透明性及びエッチング耐性のみならず、高感度で、剥がれの少ない放射線感光材料及びその放射線感光材料を用いたパターン形成方法を提供する。【構成】メタクリル酸アダマンチルモノマとアクリル酸t-ブチルモノマとを1:1で仕込み、重合開始剤としてAIBNを添加して重合した後、メタノールで沈澱精製を行って得られた構造式【化261】の共重合体に、トリフェニルスルフォニウムヘキサフロロアンチモンを添加してシクロヘキサノン溶液とし、この溶液をウェーハ上に塗布し、KrFエキシマステッパで露光し、現像すると、閾値エネルギーEthは50mJ/cm<SP>2</SP>で、解像力は130mJ/cm<SP>2</SP>で0.45μm幅のL&Sを示した。
請求項（抜粋）：
一般式【化1】で示される共重合体と放射線照射により酸を生じる物質とからなることを特徴とする放射線感光材料。
IPC (5件)：
G03F 7/039 501
, G03F 7/004 503
, G03F 7/029
, G03F 7/32
, H01L 21/027
H01L 21/30 502 R
, H01L 21/30 561
