特許
J-GLOBAL ID：200903063195740248
積層構造体の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-086174
公開番号（公開出願番号）：特開2001-290283
出願日： 2000年01月28日
公開日（公表日）： 2001年10月19日
要約：
【要約】【課題】 所望のパターンを有する積層構造体の製造方法を提供する。【解決手段】 少なくとも一つの層の感光特性が他の少なくとも一つの層の感光特性とは異なる複数の感光材料層11、12を積層して積層感光層を形成する工程と、積層感光層に対して異なる露光条件で複数回の露光を行い、複数の感光材料層11、12に所望のパターンを転写する工程と、パターンが転写された複数の感光材料層11、12を現像する工程とを有する。
請求項（抜粋）：
少なくとも一つの層の感光特性が他の少なくとも一つの層の感光特性とは異なる複数の感光材料層を積層して積層感光層を形成する工程と、前記積層感光層に対して異なる露光条件で複数回の露光を行い、前記複数の感光材料層に所望のパターンを転写する工程と、前記パターンが転写された複数の感光材料層を現像する工程と、を有することを特徴とする積層構造体の製造方法。
IPC (2件)：
G03F 7/26 511
, G03F 7/004 511
G03F 7/26 511
, G03F 7/004 511
