特許
J-GLOBAL ID：200903063216625240
ケミカルメカニカルポリシングスラリにおける使用のための粒子の形成方法及び該方法で形成された粒子
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岩橋 祐司
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-545749
公開番号（公開出願番号）：特表2005-509725
出願日： 2002年11月04日
公開日（公表日）： 2005年04月14日
要約：
【課題】 本発明は、ケミカルメカニカルポリシングスラリに研磨剤として使用するのに適した粒子の製造方法を提供する。【解決手段】 本発明による方法は、Ti[OCH(CH3)2)]4のような結晶化促進剤をセリウム塩水溶液に添加し、1種以上の塩基を用いてpHを7.0より高く調整した後、溶液を約90°Cから約500°Cの温度で水熱処理して粒子を得ることを含む。
請求項（抜粋）：
結晶化促進剤をセリウム塩水溶液に添加し、1種以上の塩基を用いてpHを7.0より高く調整し、この溶液を約90°Cから約500°Cの温度で水熱処理して粒子を得ることを含む、ケミカルメカニカルポリシングスラリにおける研磨剤としての使用に適した粒子の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C09K3/14 550D
, C01F17/00 A
4G076AA02
, 4G076AB05
, 4G076AB07
, 4G076AB10
, 4G076BA12
, 4G076BB06
, 4G076BB08
, 4G076BD01
, 4G076BD02
, 4G076CA02
, 4G076CA15
, 4G076CA25
, 4G076CA26
, 4G076DA30
