特許
J-GLOBAL ID：200903063237290361
希土類-鉄ガーネット膜の液相エピタキシャル成長方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鴨田 朝雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-049434
公開番号（公開出願番号）：特開平11-246296
出願日： 1998年03月02日
公開日（公表日）： 1999年09月14日
要約：
【要約】【課題】 同心円状クラックを低減して、生産性を著しく向上させ得るRIG膜のLPE法。【解決手段】 希土類-鉄ガーネット成分を溶かした酸化鉛系フラックス液面に、(GdCa)3(GdMgZr)5O12基板あるいは、Nd3Ga5O12基板であるガーネット基板を接触させ、該ガーネット基板に、膜厚が250μm〜600μmで、組成が(YbTbBi)3Fe5O12である希土類-鉄ガーネット膜を成長させ、前記希土類-鉄ガーネット膜の膜厚をt(μm)とし、前記ガーネット基板の基板厚をd(μm)としたとき、式6×10-6t2-0.0068t+3.4023≧d/t≧8×10-6t2-0.0091t+3.5768を満たす。
請求項（抜粋）：
希土類-鉄ガーネット成分を溶かしたフラックス液面に、ガーネット基板を接触させ、該ガーネット基板に、膜厚が250μm〜600μmの希土類-鉄ガーネット膜を成長させる液相エピタキシャル成長方法において、前記希土類-鉄ガーネット膜の膜厚をt(μm)とし、前記ガーネット基板の基板厚をd(μm)としたとき、下式(数1)を満たすことを特徴とする液相エピタキシャル成長方法。【数1】6×10-6t2-0.0068t+3.4023≧d/t≧8×10-6t2-0.0091t+3.5768
IPC (2件)：
FI (2件)：
引用特許：
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