特許

J-GLOBAL ID：200903063291498695

プラズマ処理装置用基板載置台及びプラズマ処理装置

発明者： 上田 雄大
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 須山 佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-202000
公開番号（公開出願番号）：特開2004-047653
出願日： 2002年07月10日
公開日（公表日）： 2004年02月12日
要約：

【課題】基台部と静電チャック部との間の接着状態を長期に亘って良好な状態に保つことができ、被処理基板の温度上昇の発生等を防止することができるとともに、従来に比べて装置稼働率の向上と、ランニングコストの低減を図ることのできるプラズマ処理装置用基板載置台及びプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】基板載置台2の基台部4と静電チャック部5との接着剤6による接着部の周囲を囲むように、空隙部30が設けられており、この空隙部30にヘリウム等の温調ガスが供給され、接着剤6がプラズマ処理中に腐食性の高いフッ素ラジカル等を含む処理ガスと接触しないように構成されている。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

絶縁性部材の間に静電チャック用電極を配設して構成され被処理基板を吸着保持するための静電チャック部と、導電性部材からなり冷却機構を具備した基台部とを接着剤により接着して構成され、プラズマ処理室内に配置されるプラズマ処理装置用基板載置台であって、 前記静電チャック部と、前記基台部との接着部位の周囲を囲むように設けられた空隙部と、この空隙部に所定のガスを導入するガス導入機構とを具備したことを特徴とするプラズマ処理装置用基板載置台。

IPC (2件)：

H01L21/3065 ,  C23C16/458

FI (2件)：

H01L21/302 101R ,  C23C16/458

Fターム (13件)：

4K030EA06 ,  4K030GA02 ,  4K030JA09 ,  4K030KA24 ,  4K030KA26 ,  4K030KA47 ,  5F004BA04 ,  5F004BB22 ,  5F004BB25 ,  5F004BB28 ,  5F004BC03 ,  5F004CA04 ,  5F004DA22

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 静電チャック
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-089198   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-087468   出願人：アネルバ株式会社
• プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-052618   出願人：アネルバ株式会社