特許
J-GLOBAL ID:200903063334167094
コンディショニング装置及びコンディショニング方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
丸島 儀一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-178478
公開番号(公開出願番号):特開2000-079551
出願日: 1999年06月24日
公開日(公表日): 2000年03月21日
要約:
【要約】【課題】 研磨パッドを全面均一にコンディショニングする。【解決手段】 研磨パッドの面積よりも大きな面積を有する研磨パッドコンディショナーに研磨パッドの研磨面全面を当接させてコンディショニングする。
請求項(抜粋):
研磨パッドを保持するための研磨ヘッドと、前記研磨パッドより大なるコンディショニング面を有する研磨パッドコンディショナーを保持するための研磨パッドコンディショナー保持手段と、前記研磨パッドに保持された前記研磨パッドと前記研磨パッドコンディショナー保持手段に保持された前記研磨パッドコンディショナーとを当接させるための当接手段と、を有することを特徴とするコンディショニング装置。
IPC (2件):
B24B 37/00
, H01L 21/304 622
FI (2件):
B24B 37/00 A
, H01L 21/304 622 M
引用特許:
審査官引用 (6件)
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特開昭64-016370
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研磨方法及び研磨装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-101547
出願人:株式会社日立製作所
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研磨システム
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-190112
出願人:キヤノン株式会社
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