特許
J-GLOBAL ID:200903063336742525
セラミックス基板又は無機耐熱性基板の洗浄方法及びこれを用いた素子の製造方法並びに素子
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
梶 良之
, 須原 誠
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-064926
公開番号(公開出願番号):特開2008-224498
出願日: 2007年03月14日
公開日(公表日): 2008年09月25日
要約:
【課題】基板表面の研磨残渣を除去し、清浄な基板表面を得る基板洗浄方法を提供する。【解決手段】炭化珪素(SiC)研磨材などで研磨されたアルミナ基板を、500〜800°Cに加熱された炭酸ナトリウムと炭酸リチウムとを混合した溶融塩中へ含浸することにより、アルミナ基板表面に存在する無機研磨材の残渣を除去する。その後、無機研磨材の残渣が除去されたアルミナ基板表面に、白金又は白金合金による薄膜電極及び白金又は白金合金によるヒータを形成する。【選択図】図2
請求項(抜粋):
無機研磨材で研磨されたセラミックス基板又は無機耐熱性基板をアルカリ炭酸溶融塩中へ含浸することにより、前記基板表面に存在する無機研磨材の残渣を除去することを特徴とする基板洗浄方法。
IPC (3件):
G01N 27/12
, B08B 3/10
, B08B 3/08
FI (4件):
G01N27/12 M
, B08B3/10 Z
, B08B3/08 Z
, G01N27/12 C
Fターム (29件):
2G046AA01
, 2G046BA01
, 2G046BA09
, 2G046BB02
, 2G046BB04
, 2G046BC03
, 2G046BC05
, 2G046BE03
, 2G046BE07
, 2G046BE08
, 2G046EA02
, 2G046EA04
, 2G046EA08
, 2G046EA09
, 2G046EA11
, 2G046FB02
, 2G046FE03
, 2G046FE15
, 2G046FE19
, 2G046FE23
, 2G046FE31
, 2G046FE39
, 2G046FE46
, 2G046FE48
, 3B201AA02
, 3B201AA03
, 3B201AB01
, 3B201BB01
, 3B201BB82
引用特許:
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