特許
J-GLOBAL ID：200903063427685249

写像投影型電子線式検査装置及びその方法

発明者：
奥田 浩人

奥田 浩人 について

, 
広井 高志

広井 高志 について

, 
牧野 浩士

牧野 浩士 について


出願人/特許権者：
株式会社日立ハイテクノロジーズ

株式会社日立ハイテクノロジーズ について


代理人 (1件)： ポレール特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-236305
公開番号（公開出願番号）：特開2007-051902
出願日： 2005年08月17日
公開日（公表日）： 2007年03月01日
要約：
【課題】 校正用測定以降、特に検査実行中に帯電状態の変化に起因する焦点オフセットの変化を補正することができるようにした写像投影型電子線式検査装置及びその方法を提供することにある。 【解決手段】 写像投影型電子線式検査装置において、合焦測度センサ部を有し、該合焦測度センサ部で変換された複数の画像信号から合焦測度を算出する合焦測度算出手段と、該合焦測度算出手段で算出された合焦測度を基に、電子結像光学系に関し対物レンズによる面状電子ビームの収束面と共役な共焦点面の高さを算出し、該算出された共焦点面の高さに基づいて検査領域の合焦検査画像を検査画像検出センサ部で検出するための対物レンズの焦点位置を算出する焦点位置算出手段と、該焦点位置算出手段によって算出された対物レンズの焦点位置に応じて対物レンズの焦点位置を補正する焦点位置補正手段とを有する合焦点制御部を備えたことを特徴とする。【選択図】 図10
請求項（抜粋）：
電子源からの電子ビームを面状電子ビームとして対物レンズにより収束させて検査対象物の表面に照射する電子照射光学系と、 該電子照射光学系により照射された面状電子ビームを前記検査対象物の表面付近から引き戻すような電界を発生させる電界発生手段と、 該電界発生手段により発生した電界により前記検査対象物の表面付近から引き戻された電子を電子線像として結像させる電子結像光学系と、 該電子結像光学系によって結像された前記検査対象物の合焦検査画像を検査画像信号に変換して検出する画像検出部と、 該画像検出部によって検出された検査画像信号を判定処理して検査対象物に形成された欠陥を検出する欠陥判定部とを備えた写像投影型電子線式検査装置であって、 前記検査対象物の合焦検査画像を前記画像検出部で検出するように前記対物レンズの焦点位置を制御する焦点位置制御部は、 焦点オフセットが互いに異なる複数の焦点位置において前記電子結像光学系によって結像された電子線像を前記画像検出部によって画像信号に変換し、該変換された複数の画像信号から合焦測度を算出する合焦測度算出手段と、 該合焦測度算出手段で算出された合焦測度を基に、前記電子結像光学系に関し前記対物レンズによる前記面状電子ビームの収束面と共役な共焦点面の高さを算出し、該算出された共焦点面の高さに基づいて前記検査対象物の合焦検査画像を前記画像検出部で検出するための前記対物レンズの焦点位置を算出する焦点位置算出手段と、 該焦点位置算出手段によって算出された対物レンズの焦点位置に応じて対物レンズの焦点位置を補正する焦点位置補正手段とを備えて構成したことを特徴とする写像投影型電子線式検査装置。
IPC (3件)：
G01N 23/225 ,  H01J 37/29 ,  H01J 37/21
FI (3件)：
G01N23/225 ,  H01J37/29 ,  H01J37/21 B
Fターム (20件)：
2G001AA03 ,  2G001BA07 ,  2G001CA03 ,  2G001DA08 ,  2G001FA08 ,  2G001GA06 ,  2G001GA08 ,  2G001HA09 ,  2G001HA12 ,  2G001HA13 ,  2G001JA03 ,  2G001JA06 ,  2G001JA07 ,  2G001JA13 ,  2G001JA17 ,  2G001KA03 ,  2G001LA11 ,  2G001MA05 ,  2G001PA11 ,  5C033MM05
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (4件)
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