検査装置及び検査方法並びにプロセス管理方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：作田康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-317700
公開番号（公開出願番号）：特開2005-083948
出願日： 2003年09月10日
公開日（公表日）： 2005年03月31日
要約：

【課題】本発明の課題は,様々な種類の欠陥を同時に検出できるミラープロジェクション式検査装置を実現することである。【解決手段】同一の被検査領域でフォーカスの異なる画像を複数枚取得する。これは検出器を複数設け,それぞれの高さを相対的に変えることにより実現できる。別の手段は,結像光学系のフォーカスを段階的に変えて画像を取得することにより実現できる。【効果】検出器を複数設けそれぞれの高さを相対的に変えることで,フォーカスの異なる画像を同時に取得する。別の方法では同一被検査領域の画像を結像光学系のレンズを段階的に変えてフォーカスの異なる画像を取得する。これらの複数のフォーカスの異なる画像を取得することにより,様々な種類の欠陥を検出できる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

電子線を、試料の被検査領域に向けて順次照射する電子照射部と、前記電子線を被検査領域付近で引き戻す減速手段と、前記引き戻した前記電子線を複数の異なる結像条件で結像させる結像部と、前記結像させた電子線を前記結像条件ごとの画像として取りこむ画像検出部と、前記結像条件ごとの画像を相互に比較することにより、前記被検査領域の欠陥を検出する画像処理部を有する検査装置。

IPC (5件)：

G01N23/225 , G01B15/00 , H01J37/21 , H01J37/22 , H01L21/66

FI (5件)：

G01N23/225 , G01B15/00 B , H01J37/21 B , H01J37/22 502H , H01L21/66 J

Fターム (46件)：

2F067AA45 , 2F067CC17 , 2F067HH06 , 2F067JJ05 , 2F067LL16 , 2F067NN02 , 2F067QQ08 , 2F067RR35 , 2F067TT07 , 2G001AA03 , 2G001BA15 , 2G001CA03 , 2G001DA06 , 2G001FA06 , 2G001GA01 , 2G001GA09 , 2G001GA10 , 2G001GA13 , 2G001HA13 , 2G001JA02 , 2G001JA03 , 2G001JA06 , 2G001KA03 , 2G001LA11 , 2G001MA05 , 2G001PA11 , 4M106AA01 , 4M106AA02 , 4M106BA02 , 4M106BA14 , 4M106CA39 , 4M106DB01 , 4M106DB12 , 4M106DB19 , 4M106DH33 , 4M106DJ18 , 4M106DJ20 , 4M106DJ21 , 4M106DJ23 , 5C033MM01 , 5C033NN02 , 5C033NP01 , 5C033NP05 , 5C033NP06 , 5C033UU03 , 5C033UU04

引用特許：

出願人引用 (1件)

パターン欠陥検査方法および検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-269500 出願人：株式会社日立製作所

審査官引用 (5件)

パターン欠陥検査方法及びパターン欠陥検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-002002 出願人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
基板検査方法および基板検査システム
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-269346 出願人：株式会社東芝
回路パターン検査装置および方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-184519 出願人：株式会社日立製作所

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