特許
J-GLOBAL ID：200903093738101930

パターン欠陥検査方法及びパターン欠陥検査装置

発明者：
品田 博之

品田 博之 について

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村越 久弥

村越 久弥 について

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戸所 秀男

戸所 秀男 について

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牧野 浩士

牧野 浩士 について

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阿南 義弘

阿南 義弘 について


出願人/特許権者：
株式会社日立ハイテクノロジーズ

株式会社日立ハイテクノロジーズ について


代理人 (1件)： 小川 勝男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-002002
公開番号（公開出願番号）：特開2003-202217
出願日： 2002年01月09日
公開日（公表日）： 2003年07月18日
要約：
【要約】【課題】半導体装置の製造過程にあるウェハ上パターンの欠陥、異物、残渣および段差等を電子ビームにより検査する技術において、高分解能で、かつ検査速度の高速化を実現する欠陥検査装置を提供する。【解決手段】被検査半導体7の表面に電子ビームを減速させる電界を形成し減速電界により被検査半導体の表面に到達し得ないエネルギーの成分を含む、一定の面積を持った電子ビーム(面状の電子ビーム)を被検査半導体表面の極近傍で反射させて結像レンズ11により結像し、被検査半導体表面の複数の領域の画像を取得して画像記憶部に記憶させる。この記憶された複数の領域の画像同士を比較することによって、上記領域内における欠陥の有無および欠陥の位置を計測する。
請求項（抜粋）：
2次元的な広がりを有する面状の電子ビームを、負の電位を印加された試料表面の複数の照射領域に順次照射し、前記試料に衝突せずに前記試料の表面付近で引き戻された電子を結像せしめて、前記複数の照射領域の拡大電子像を順次形成し、形成された前記複数の照射領域の拡大電子像を電気的な画像信号に変換して、前記複数の照射領域についての画像信号同士を比較することにより、前記試料に形成されたパターン欠陥を検出するよう構成したことを特徴とするパターン欠陥検査方法。
IPC (5件)：
G01B 15/00 ,  G01B 21/00 ,  H01J 37/22 502 ,  H01J 37/29 ,  H01L 21/66
FI (6件)：
G01B 15/00 B ,  G01B 21/00 D ,  G01B 21/00 L ,  H01J 37/22 502 H ,  H01J 37/29 ,  H01L 21/66 J
Fターム (28件)：
2F067AA45 ,  2F067BB04 ,  2F067CC17 ,  2F067EE04 ,  2F067EE10 ,  2F067HH06 ,  2F067JJ05 ,  2F067KK07 ,  2F067LL16 ,  2F067NN03 ,  2F067PP12 ,  2F067QQ10 ,  2F067RR35 ,  2F067TT06 ,  2F069AA03 ,  2F069AA42 ,  2F069BB15 ,  2F069CC06 ,  2F069EE04 ,  2F069EE26 ,  2F069GG07 ,  4M106AA01 ,  4M106BA02 ,  4M106CA39 ,  4M106DB04 ,  4M106DB05 ,  4M106DB18 ,  4M106DJ18
引用特許：
出願人引用 (10件)
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審査官引用 (10件)
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