特許
J-GLOBAL ID：200903063487102749
半導体製造システム、半導体製造装置、半導体製造方法及び半導体装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山口 邦夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-232659
公開番号（公開出願番号）：特開2003-042498
出願日： 2001年07月31日
公開日（公表日）： 2003年02月13日
要約：
【要約】【課題】 クリーンルームを清浄純粋な雰囲気の状態に維持できるようにする。【解決手段】 半導体装置を製造するクリーンルーム1と、ケミカルコンタミ非発散性の材料を使用した半導体製造装置20とを備え、この半導体製造装置20は当該クリーンルーム1内に設置されるものである。この構成によって、半導体製造装置20からクリーンルームへのケミカルコンタミの発散を無くすことができるので、クリーンルーム内を清浄純粋な雰囲気の状態に維持することができる。ケミカルコンタミ発散性の材料を使用した半導体製造装置20を使用して半導体装置を製造する場合に比べて、ケミカルコンタミ汚染に起因する不良発生、品質低下、信頼性低下及び、製造ラインの稼働率低下を少なくすることができる。
請求項（抜粋）：
半導体装置を製造するためのクリーンルームと、ケミカルコンタミ非発散性の材料を使用した半導体製造装置とを備え、前記半導体製造装置は当該クリーンルーム内に設置されることを特徴とする半導体製造システム。
IPC (2件)：
FI (2件)：
F24F 7/06 C
, H01L 21/02 D
審査官引用 (8件)
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半導体装置生産用クリーンルーム
公報種別：公開公報
出願番号：特願平9-065667
出願人：宮崎沖電気株式会社, 沖電気工業株式会社
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特開平3-217467
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特開平3-217467
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