特許
J-GLOBAL ID：200903063587904486

パターン比較検査方法及び装置

発明者：
桑原 雅之

桑原 雅之 について


出願人/特許権者：
株式会社東京精密

株式会社東京精密 について


代理人 (1件)： 石田 敬 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-149665
公開番号（公開出願番号）：特開2002-342757
出願日： 2001年05月18日
公開日（公表日）： 2002年11月29日
要約：
【要約】【課題】 セルの配列ピッチRが画素ピッチPの整数倍でない場合でも、ソフトウエア処理でセル-セル比較が行えるパターン比較検査方法及び装置の実現。【解決手段】 所定のピッチRで繰り返される複数の基本パターン120を有するパターンの画像を撮影して画素データを生成する撮像部12,16と、画像データを記憶するメモリ17と、画像データに基づいて、基本パターンの対応する画素データを順次比較する画像処理部18とを備えるパターン比較検査装置であって、画像処理部18は、画素ピッチより小さい所定の分解ピッチP/Lより長い分解能で表した時に、所定のピッチを第1の整数M倍した長さが画素ピッチの整数倍とみなせる第1の整数Mを設定する整数倍ピッチ設定部を備え、整数倍ピッチ設定部に設定された第1の整数M個離れた基本パターンの対応する画素データを順次比較する。
請求項（抜粋）：
所定のピッチで繰り返される複数の基本パターンを有するパターンの画素データに基づいて、前記基本パターンの対応する画素データを順次比較することにより検査するパターン比較検査方法であって、画素ピッチより小さい所定の分解ピッチ以上の分解能で表した時に、前記所定のピッチを第1の整数(M)倍した長さが前記画素ピッチの整数倍とみなせる前記第1の整数(M)を設定し、前記第1の整数(M)個離れた基本パターンの対応する画素データを順次比較することを特徴とするパターン比較検査方法。
IPC (5件)：
G06T 7/00 300 ,  G01N 21/956 ,  G01R 31/00 ,  G06T 1/00 305 ,  H01L 21/66
FI (5件)：
G06T 7/00 300 E ,  G01N 21/956 A ,  G01R 31/00 ,  G06T 1/00 305 A ,  H01L 21/66 J
Fターム (32件)：
2G036AA25 ,  2G036BA00 ,  2G036BB12 ,  2G036CA06 ,  2G051AA51 ,  2G051AC21 ,  2G051EA12 ,  2G051EA14 ,  4M106AA01 ,  4M106CA39 ,  4M106DB04 ,  4M106DB21 ,  4M106DJ18 ,  4M106DJ21 ,  5B057AA03 ,  5B057CA08 ,  5B057CA12 ,  5B057CA16 ,  5B057CC02 ,  5B057CC03 ,  5B057DA03 ,  5B057DA08 ,  5B057DB02 ,  5B057DB09 ,  5B057DC32 ,  5L096AA06 ,  5L096BA03 ,  5L096CA03 ,  5L096DA02 ,  5L096EA17 ,  5L096JA03 ,  5L096JA18
引用特許：
審査官引用 (3件)

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