X線マスクおよびその製造方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：深見久郎 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-193225
公開番号（公開出願番号）：特開2000-031008
出願日： 1998年07月08日
公開日（公表日）： 2000年01月28日
要約：

【要約】【課題】高い位置精度を有する転写用回路パターンを備え、簡略化した製造工程で製造することが可能なX線マスクおよびその製造方法を提供する。【解決手段】支持部材1と、支持部材1上に形成されたX線吸収体3とを備えるX線マスクの製造方法であって、X線吸収体3上にマスク層4を形成する。支持部材1に位置基準マーク8を含む位置検出部材31を固定する。位置基準マーク8をマスク層4の位置検出に用いながら、マスク層4にマスクパターンを描画する。

請求項（抜粋）：

支持部材と、前記支持部材上に形成されたX線吸収体とを備えるX線マスクの製造方法であって、前記X線吸収体上にマスク層を形成する工程と、前記支持部材に、位置基準マークを含む位置検出部材を固定する工程と、前記位置基準マークを前記マスク層の位置検出に用いながら、前記マスク層にマスクパターンを描画する工程とを備える、X線マスクの製造方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 1/16

FI (3件)：

H01L 21/30 531 M , G03F 1/16 A , H01L 21/30 531 J

Fターム (14件)：

2H095BA10 , 2H095BC08 , 2H095BC28 , 2H095BC30 , 2H095BE03 , 2H095BE08 , 2H095BE09 , 2H095BE10 , 5F046GD04 , 5F046GD12 , 5F046GD15 , 5F046GD17 , 5F046GD19 , 5F046GD20

引用特許：

審査官引用 (8件)

X線マスク及びそのアライメント方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-118036 出願人：三菱電機株式会社
X線マスクの製造方法及びそれにより得られたX線マスク
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-189677 出願人：三菱マテリアル株式会社, 三菱電機株式会社
特開昭63-104327

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