特許
J-GLOBAL ID：200903063632622080
ガス供給装置、基板処理装置および基板処理方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-286411
公開番号（公開出願番号）：特開2009-117477
出願日： 2007年11月02日
公開日（公表日）： 2009年05月28日
要約：
【課題】基板の最外周の特性補正を有効に行うことができるガス供給装置を提供する。【解決手段】ガス供給装置60は、シャワーヘッド16と、処理ガスをシャワーヘッド16に向けて供給する処理ガス供給部66と、処理ガス供給部66からの処理ガスを流す処理ガス供給流路64と、処理ガス供給流路64から分岐してシャワーヘッド16に処理ガスを供給する分岐流路64a,64bと、付加ガスをシャワーヘッド16に向けて供給する付加ガス供給部75と、付加ガス供給部75からの付加ガスをシャワーヘッド16に流す付加ガス供給流路76とを具備し、シャワーヘッド16は、ウエハの配置領域にガスを供給する第1、第2ガス導入部51,52と、ウエハの外縁よりも外側にガスを供給する第3ガス導入部53とを有し、分岐流路64a,64bは第1、第2ガス導入部51,52に接続され、付加ガス供給流路76は、第3ガス導入部53に接続されている。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
被処理基板が配置された処理室内にガスを供給するガス供給装置であって、
前記処理室内において、その中に配置された被処理基板に対向して設けられ、前記処理室内にガスを導入する複数のガス導入部を有するガス導入部材と、
被処理基板を処理する処理ガスを前記ガス導入部材に向けて供給する処理ガス供給部と、
前記処理ガス供給部からの処理ガスを流す処理ガス供給流路と、
前記処理ガス供給流路から分岐し、前記ガス導入部材に接続され、所定の分流割合で前記処理ガスを供給する複数の分岐流路と、
前記処理ガスによる処理特性を調整するための付加ガスを前記ガス導入部材に向けて供給する付加ガス供給部と、
前記付加ガス供給部からの付加ガスを流し、前記ガス導入部材に接続された付加ガス供給流路とを具備し、
前記複数のガス導入部は、前記被処理基板の配置領域にガスを供給する複数の内側ガス導入部と、前記被処理基板の外縁よりも外側の領域にガスを導入する外側ガス導入部を有し、前記複数の分岐流路は前記複数の内側ガス導入部に接続され、前記付加ガス供給流路は前記外側ガス導入部に接続されていることを特徴とするガス供給装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (15件)：
5F004AA01
, 5F004BA04
, 5F004BB07
, 5F004BB18
, 5F004BB25
, 5F004BB26
, 5F004BB28
, 5F004DA00
, 5F004DA01
, 5F004DA15
, 5F004DA16
, 5F004DA23
, 5F004DA26
, 5F004DB03
, 5F004DB07
