特許
J-GLOBAL ID：200903063711116831
ガスタービン素子における冷却穴のレーザー加工法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
社本 一夫
, 増井 忠弐
, 小林 泰
, 千葉 昭男
, 富田 博行
, 神田 藤博
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-551122
公開番号（公開出願番号）：特表2004-532738
出願日： 2001年09月11日
公開日（公表日）： 2004年10月28日
要約：
本発明は中空のガスタービン素子内に冷却穴をレーザー加工する方法を提供し、冷却穴は円形横断面の計量供給穴と、計量供給穴内の形状場所から台形横断面の開口へ延びる開口を備えたディフューザとを含み、このレーザー加工は、レーザービームが形状場所を実質上越えない程度まで素子の外側表面を侵食するように、ディフューザ開口を形成するために素子の外側表面において鋭角で形状場所の方へ一連のレーザーパルスを発射させ、次いで、円形横断面を有する計量供給穴を形成するために形状場所及び素子の内側表面を通してレーザーを発射させることにより、行われる。代わりに、初期のレーザーパルスが発射されて、ディフューザ開口の中央部分を形成し、次いで計量供給穴を形成するようにレーザーを発射し、それに続いて、ディフューザ開口の周辺部に沿ってレーザーを発射して、ディフューザ開口を形成する。
請求項（抜粋）：
中空のガスタービン素子内に冷却穴をレーザー加工する方法であって、
冷却穴は素子の内側表面から延びる円形横断面の計量供給穴及び開口を有するディフューザを含み、前記開口は計量供給穴内の形状場所から素子の外側表面における台形横断面の開口へ延び、前記方法は、
レーザービームが形状場所を実質上越えない程度まで素子の外側表面へ侵食するように、ディフューザ開口を形成するために素子の外側表面において鋭角で形状場所の方へ一連のレーザーパルスを発射させる工程、
次いで、円形横断面を有する計量供給穴を形成するために形状場所及び素子の内側表面を通してレーザーを発射させる工程、を含む方法。
IPC (3件)：
B23K26/00
, F01D5/18
, F02C7/00
B23K26/00 G
, B23K26/00 330
, F01D5/18
, F02C7/00 D
3G002CA06
, 3G002CA15
, 3G002CB00
, 4E068AF00
, 4E068DA02
