特許

J-GLOBAL ID：200903063783572050

磁気冷凍作業物質ならびに磁気冷凍方式

発明者： 深道 和明 ,  藤田 麻哉 ,  藤枝 俊 ,  平野 直樹 ,  長屋 重夫
出願人/特許権者： 中部電力株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-280290
公開番号（公開出願番号）：特開2006-089839
出願日： 2004年09月27日
公開日（公表日）： 2006年04月06日
要約：

【課題】 本発明は、室温近傍の冷蔵庫や冷凍庫などの家電だけでなく、ガス液化産業や、超伝導デバイスなどを支える冷凍技術に関し磁気冷凍作業物質ならびに磁気冷却方式を提供する。 【解決手段】 本発明では、磁気冷凍作業物質である NaZn13型La(FexSi1-x)13Hy において、Ceを部分置換、Hを吸収させその組成をNaZn13型La1-zCez(FexSi1-x)13Hyとしたことを特徴とする磁気冷凍作業物質を得ることができる。また、前記磁気冷凍作業物質NaZn13型NaZn13型La1-zCez(FexSi1-x)13Hy を1種類あるいはその組成を変えたものを複数用いて冷却制御を行う磁気冷凍方式を得ることができる。【選択図】 図6

請求項（抜粋）：

磁気冷凍作業物質である NaZn13型La(FexSi1-x)13Hy において、Ceを部分置換、Hを吸収させその組成をNaZn13型La1-zCez(FexSi1-x)13Hyとしたことを特徴とする磁気冷凍作業物質。

IPC (3件)：

C22C 38/00 ,  F25B 21/00 ,  H01F 1/00

FI (3件)：

C22C38/00 303Z ,  F25B21/00 A ,  H01F1/00 Z

Fターム (4件)：

5E040AA19 ,  5E040CA20 ,  5E040HB15 ,  5E040NN01

引用特許：

出願人引用 (2件)

• フッ素化による光学用高分子材料の屈折率制御方法およびその成形品の表面親水化方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-288408   出願人：日本電信電話株式会社, 昭和電工株式会社
• フッ素系樹脂膜の形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-222893   出願人：富士通株式会社

審査官引用 (4件)

• 磁気冷凍材料及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-290258   出願人：株式会社東芝
• 磁気冷凍作業物質および蓄冷式熱交換器ならびに磁気冷凍装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-215503   出願人：住友特殊金属株式会社
• 特開平4-242901
  
• 特開平4-242901