特許

J-GLOBAL ID：200903006705151265

フッ素化による光学用高分子材料の屈折率制御方法およびその成形品の表面親水化方法

発明者： 松浦 徹 ,  佐々木 重邦 ,  門田 隆二 ,  中村 佳澄 ,  井上 長三
出願人/特許権者： 日本電信電話株式会社 ,  昭和電工株式会社
代理人 (1件)： 谷 義一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-288408
公開番号（公開出願番号）：特開2000-095862
出願日： 1998年10月09日
公開日（公表日）： 2000年04月04日
要約：

【要約】【課題】 光学部品用高分子材料に簡便にフッ素を導入し、その屈折率を低減すること。【解決手段】 光学用高分子材料の屈折率を、有機高分子をフッ素ガス雰囲気に浸漬することにより制御する。

請求項（抜粋）：

有機高分子をフッ素ガス雰囲気中に浸漬することにより、前記有機高分子の屈折率を制御することを特徴とする光学用高分子材料の屈折率制御方法。

IPC (4件)：

C08G 73/10 ,  C08J 7/12 ,  G02B 1/04 ,  G02B 6/00 391

FI (4件)：

C08G 73/10 ,  C08J 7/12 B ,  G02B 1/04 ,  G02B 6/00 391

Fターム (17件)：

2H050AA14 ,  2H050AB47Y ,  2H050AC03 ,  4F073AA01 ,  4F073AA14 ,  4F073BA31 ,  4F073DA04 ,  4F073HA09 ,  4F073HA14 ,  4J043PA02 ,  4J043PB03 ,  4J043PC146 ,  4J043RA35 ,  4J043YB08 ,  4J043YB18 ,  4J043ZA51 ,  4J043ZB21

引用特許：

出願人引用 (5件)

• ポリイミドの屈折率変化方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-226549   出願人：日本電信電話株式会社
• 含フッ素ポリイミドの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-129983   出願人：日本電気株式会社
• ポリイミダゾピロロン中空糸複合膜及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-036296   出願人：大日本インキ化学工業株式会社
• フッ素化ポリイミドの表面改良方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-217131   出願人：日本電信電話株式会社
• 分離膜
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-159695   出願人：大日本インキ化学工業株式会社