特許
J-GLOBAL ID：200903063798019667
X線発生装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
絹谷 信雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-092472
公開番号（公開出願番号）：特開2003-287594
出願日： 2002年03月28日
公開日（公表日）： 2003年10月10日
要約：
【要約】【課題】 X線の発生効率を向上させたX線発生装置を提供する。【解決手段】 加速器21内の挿入光源22を構成する複数対の磁石25a、25b間を電子ビームe-が通過する際電子ビームe-が蛇行してシンクロトロンと呼ばれるX線や可視光が発生する。加速器21で発生した可視光は第1のミラー27、非対称ミラー29及び第2のミラー32からなる光学系23内を往復することでレーザ発振する。このレーザ発振によるレーザ光が挿入光源22を通過する電子ビームe-と正面衝突してX線(γ線)28-1を発生する。レーザ光と電子ビームe-との衝突回数が従来例より増加するのでX線28-1の発生効率が向上する。挿入光源22で発生したX線28-1は加速器21から出射して非対称ミラー29で光路30を進むレーザ光とは異なる角度θ2で反射する。
請求項（抜粋）：
加速器で加速された電子ビームとレーザ光源からのレーザ光とを衝突させてX線を発生させるX線発生装置において、上記加速器内で直線状の電子ビーム軌道を挟むと共に隣り合う磁界の方向が互い違いになるように配列され挿入光源を構成する複数対の磁石と、上記加速器外で直線状の電子ビーム軌道の一方の延長線上に配置され上記挿入光源からの可視光を上記挿入光源に戻す第1のミラーと、上記加速器外で上記直線状の電子ビーム軌道の他方の延長線上に配置され可視光の反射面とX線の反射面とが異なる非対称ミラーと、上記加速器外に配置され上記非対称ミラーからの可視光を上記非対称ミラーに反射させて上記挿入光源に戻すことによりレーザ発振を生じさせ、得られたレーザ光を上記電子ビームと正面衝突させてレーザ逆コンプトン散乱X線を発生させるための第2のミラーとを備えたことを特徴とするX線発生装置。
IPC (4件)：
G21K 1/06
, G21K 1/093
, G21K 5/02
, H05G 2/00
G21K 1/06 B
, G21K 1/093 Z
, G21K 5/02 X
, H05G 1/00 L
