硬基板塗布装置

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：山田文雄 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-311206
公開番号（公開出願番号）：特開平10-137646
出願日： 1996年11月08日
公開日（公表日）： 1998年05月26日
要約：

【要約】【課題】下部が塗布液槽に浸漬されたマイクロロッドバーと、その上方に対向配置されたニップローラとの間に、硬基板を挟んで送ることにより、硬基板の下面に塗布液を塗布する硬基板塗布装置に用いる硬基板搬送装置において、硬基板の塗布中に硬基板が僅かに振れて硬基板が搬送ローラに強く擦れるのを防ぎ、塗布面の汚れや塗布面状の悪化を防ぐ。【解決手段】硬基板の搬送方向に直交する水平な軸に保持されその一定外径の外周面が硬基板の両側縁の下面に転接する複数の搬送ローラと、硬基板の搬送方向に直交する垂直な軸に保持されその外周面が硬基板の両側縁にほぼ水平に弾接する複数のガイドローラとを備える。

請求項（抜粋）：

下部が塗布液槽に浸漬されたマイクロロッドバーと、このマイクロロッドバーの上方に対向配置されたニップローラとの間に、硬基板を挟んで送ることにより、硬基板の下面に塗布液を塗布する硬基板塗布装置に用いる硬基板搬送装置において、硬基板の搬送方向に直交する水平な軸に保持されその一定外径の外周面が硬基板の両側縁の下面に転接する複数の搬送ローラと、硬基板の搬送方向に直交するほぼ垂直な軸に保持されその外周面が硬基板の両側縁にほぼ水平に弾接する複数のガイドローラとを備えることを特徴とする硬基板搬送装置。

引用特許：

審査官引用 (5件)

フォトレジスト塗布装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-008272 出願人：株式会社日立製作所
特開昭60-202042
塗布方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-293208 出願人：京セラ株式会社

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