基板選択装置および描画用基板の供給方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：金山聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-079953
公開番号（公開出願番号）：特開2002-278046
出願日： 2001年03月21日
公開日（公表日）： 2002年09月27日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】フォトマスク作製のためのパタン描画に供用される基板選択装置で、目的とする製品の品質仕様に見合う基板を提供でき、且つ、感光材を無駄にせずに、コスト面や生産性の面でも対応できる、基板選択装置を提供する。【解決手段】各遮光膜成膜基板の遮光膜欠陥情報を蓄積する遮光膜欠陥情報データベースと、該遮光膜欠陥情報データベースに遮光膜欠陥情報を登録するための遮光膜欠陥登録部と、描画すべきパタンの描画情報を蓄積する描画情報データベースと、該描画情報データベースに描画すべきパタンの描画情報を登録するための描画情報登録部と、各データベースに蓄積された描画情報と遮光膜欠陥情報から、1つ以上の手段で目的とする製品に適用できる遮光膜成膜基板を選択する遮光膜成膜基板選択部とを有し、遮光膜成膜基板選択部により、目的とする製品に適用する遮光膜成膜基板を選択するものであることを特徴とするものである。

請求項（抜粋）：

遮光膜をその一面に成膜し、感光材層を未塗布の、フォトマスク形成用の遮光膜成膜基板群の中から、遮光膜の欠陥情報と描画情報より、目的とする製品に合う遮光膜成膜基板を選択し、選択された遮光膜成膜基板の遮光膜上に、感光材を塗布して、フォトマスク作製のための描画に供与する、基板選択装置であって、各遮光膜成膜基板の遮光膜欠陥情報を蓄積する遮光膜欠陥情報データベースと、該遮光膜欠陥情報データベースに遮光膜欠陥情報を登録するための遮光膜欠陥登録部と、描画すべきパタンの描画情報を蓄積する描画情報データベースと、該描画情報データベースに描画すべきパタンの描画情報を登録するための描画情報登録部と、各データベースに蓄積された描画情報と遮光膜欠陥情報から、1つ以上の手段で目的とする製品に適用できる遮光膜成膜基板を選択する遮光膜成膜基板選択部とを有し、遮光膜成膜基板選択部により、目的とする製品に適用する遮光膜成膜基板を選択するものであることを特徴とする基板選択装置。

IPC (3件)：

G03F 1/08 , G03F 7/20 501 , H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 1/08 Z , G03F 7/20 501 , H01L 21/30 502 P

Fターム (6件)：

2H095BA01 , 2H095BB29 , 2H095BB31 , 2H097BA10 , 2H097DB20 , 2H097LA17

引用特許：

審査官引用 (7件)

パターン形成方法及び露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-203050 出願人：株式会社東芝
半導体装置等の製造方法及びその装置並びに検査方法及びその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-334606 出願人：株式会社日立製作所
自動フォトマスク検査装置及び方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-177462 出願人：ケーエルエー・インストルメンツ・コーポレーション

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