特許
J-GLOBAL ID：200903064002866904
レーザー光発生装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
逢坂 宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-031429
公開番号（公開出願番号）：特開平11-233859
出願日： 1998年02月13日
公開日（公表日）： 1999年08月27日
要約：
【要約】【課題】 安定性かつ信頼性の高いレーザー光発生装置を提供すること。【解決手段】 半導体レーザーからなる励起光源4及び5と、レーザー光20を発生するレーザー媒質2とを有するレーザー光発生装置において、励起光源4とレーザー媒質2とを同一の基体1上に配置し、かつ、励起光源4及び5とレーザー媒質2とを熱的に分離状態とする。または、励起光源4及び5と、ウエッジ型導波路9及び10と、レーザー光20を発生するレーザー媒質2とを有するレーザー光発生装置において、励起光源2とウエッジ型導波路9及び10とレーザー媒質2とを同一の基体上に配置する。
請求項（抜粋）：
励起光を出射する励起光源と、この励起光によって励起され、レーザー光を発生するレーザー媒質とを有するレーザー光発生装置において、前記励起光源と前記レーザー媒質とが一体の基体上に配されており、かつ、前記励起光源と前記レーザー媒質とが熱的に分離状態とされていることを特徴とする、レーザー光発生装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01S 3/094 S
, H01S 3/04 Z
