特許
J-GLOBAL ID:200903064086893944

半導体装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 加藤 恭介
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-361847
公開番号(公開出願番号):特開2001-203363
出願日: 1994年06月14日
公開日(公表日): 2001年07月27日
要約:
【要約】【課 題】 薄膜トランジスタと補助容量とを有する半導体装置。【解決手段】 前記半導体装置は、ゲイト電極、ゲイト絶縁膜、及びP型またはN型の導電型を有する半導体膜からなる薄膜トランジスタと、前記半導体膜を一方の電極とし、ゲイト配線を他方の電極とした補助容量とから構成されている。
請求項(抜粋):
薄膜トランジスタと補助容量とを有する半導体装置において、前記薄膜トランジスタは、ゲイト電極、ゲイト絶縁膜、及びP型またはN型の導電型を有する半導体膜を有し、前記補助容量は、前記半導体膜を一方の電極とし、ゲイト配線を他方の電極とし、前記ゲイト絶縁膜を誘電体とすることを特徴とする半導体装置。
IPC (8件):
H01L 29/786 ,  H01L 21/20 ,  H01L 21/265 602 ,  H01L 21/265 ,  H01L 21/28 ,  H01L 27/08 331 ,  H01L 21/336 ,  G02F 1/1368
FI (10件):
H01L 21/20 ,  H01L 21/265 602 C ,  H01L 21/265 602 B ,  H01L 21/28 J ,  H01L 27/08 331 E ,  H01L 29/78 613 Z ,  H01L 29/78 617 A ,  H01L 29/78 617 V ,  H01L 29/78 627 F ,  G02F 1/136 500
引用特許:
審査官引用 (9件)
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