特許
J-GLOBAL ID：200903064201619339

フォーカスリングおよびそのための方法

発明者：
ディンドサ・ラジンダー

ディンドサ・ラジンダー について

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トクナガ・ケン

トクナガ・ケン について

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シング・ビクラム

シング・ビクラム について


出願人/特許権者：
ラム リサーチ コーポレーション

ラム リサーチ コーポレーション について


代理人 (1件)： 五十嵐 孝雄 (外3名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-525906
公開番号（公開出願番号）：特表2001-527285
出願日： 1998年12月11日
公開日（公表日）： 2001年12月25日
要約：
【要約】【課題】 プラズマ処理チャンバ内で使用するように構成される、改良フォーカスリングを開示する。【解決手段】 このフォーカスリングは、プラズマ処理の最中に高周波(RF)電源で通電されて電極として作用する基板保持チャックの少なくとも一部分に重なるように構成される。このフォーカスリングは、プラズマ処理の最中にプラズマ処理チャンバ内のプラズマ領域に露出する上部表面を有する。このフォーカスリングはさらに、基板保持チャックの一部分に重なり、少なくとも一部分はフォーカスリングの残りの部分より低誘電率の第1の材料で形成されるチャック重なり部分を備える。
請求項（抜粋）：
プラズマ処理チャンバで使用するように構成されるとともに、プラズマ処理の最中に高周波(RF)電源で通電されて電極として作用する基板保持チャックの少なくとも一部分に重なるように構成される、フォーカスリングであって、 前記プラズマ処理の最中に前記プラズマ処理チャンバ内のプラズマ領域に露出する上面と、 前記基板保持チャックの前記一部分に重なり、少なくとも一部分は前記フォーカスリングの残りの部分より低誘電率の第1の材料で形成される、チャック重なり部分と、を備えるフォーカスリング。
IPC (5件)：
H01L 21/3065 ,  H01J 37/32 ,  H01L 21/205 ,  H05H 1/46 ,  C23C 16/505
FI (5件)：
H01J 37/32 ,  H01L 21/205 ,  H05H 1/46 L ,  C23C 16/505 ,  H01L 21/302 C
Fターム (23件)：
4K030FA01 ,  4K030FA04 ,  4K030GA02 ,  4K030KA30 ,  4K030KA46 ,  4K030LA15 ,  5F004AA16 ,  5F004BA08 ,  5F004BA14 ,  5F004BA20 ,  5F004BB13 ,  5F004BB22 ,  5F004BB23 ,  5F004BB28 ,  5F004BB29 ,  5F045AA08 ,  5F045BB08 ,  5F045DP03 ,  5F045EH11 ,  5F045EH12 ,  5F045EH16 ,  5F045EH17 ,  5F045EM01
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (8件)
  • 特開平2-268430
  • 減圧処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-114261   出願人：東京エレクトロン株式会社
  • プラズマ処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-022736   出願人：東京エレクトロン株式会社
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