特許
J-GLOBAL ID:200903064375299163

アライメントマーク、荷電粒子線露光装置用レチクル及び荷電粒子線露光方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-208656
公開番号(公開出願番号):特開2003-022961
出願日: 2001年07月10日
公開日(公表日): 2003年01月24日
要約:
【要約】【課題】 信号強度の変化が大きく、位置検出の精度を向上させることができるアライメントマークを提供することを目的とする。【解決手段】 荷電粒子線露光装置での光学アライメントに用いられる、段差パターンで形成されるアライメントマークであって、 前記段差パターンは、複数の段差パターンに分割されていることを特徴とするアライメントマークとした。また、前記段差パターンは、所定の間隔で配列された複数のラインパターンで構成されていることを特徴とするアライメントマークとした。
請求項(抜粋):
荷電粒子線露光装置での光学アライメントに用いられる、段差パターンで形成されるアライメントマークであって、前記段差パターンは、複数の段差パターンに分割されていることを特徴とするアライメントマーク。
IPC (5件):
H01L 21/027 ,  G03F 1/08 ,  G03F 1/16 ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 9/00
FI (6件):
G03F 1/08 N ,  G03F 1/16 B ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 541 K ,  H01L 21/30 541 S
Fターム (11件):
2H095BA08 ,  2H095BE03 ,  2H097CA16 ,  2H097KA03 ,  2H097KA12 ,  2H097LA10 ,  5F056AA06 ,  5F056AA22 ,  5F056BD04 ,  5F056CC08 ,  5F056FA06
引用特許:
審査官引用 (5件)
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