特許
J-GLOBAL ID:200903064375299163
アライメントマーク、荷電粒子線露光装置用レチクル及び荷電粒子線露光方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-208656
公開番号(公開出願番号):特開2003-022961
出願日: 2001年07月10日
公開日(公表日): 2003年01月24日
要約:
【要約】【課題】 信号強度の変化が大きく、位置検出の精度を向上させることができるアライメントマークを提供することを目的とする。【解決手段】 荷電粒子線露光装置での光学アライメントに用いられる、段差パターンで形成されるアライメントマークであって、 前記段差パターンは、複数の段差パターンに分割されていることを特徴とするアライメントマークとした。また、前記段差パターンは、所定の間隔で配列された複数のラインパターンで構成されていることを特徴とするアライメントマークとした。
請求項(抜粋):
荷電粒子線露光装置での光学アライメントに用いられる、段差パターンで形成されるアライメントマークであって、前記段差パターンは、複数の段差パターンに分割されていることを特徴とするアライメントマーク。
IPC (5件):
H01L 21/027
, G03F 1/08
, G03F 1/16
, G03F 7/20 504
, G03F 9/00
FI (6件):
G03F 1/08 N
, G03F 1/16 B
, G03F 7/20 504
, G03F 9/00 H
, H01L 21/30 541 K
, H01L 21/30 541 S
Fターム (11件):
2H095BA08
, 2H095BE03
, 2H097CA16
, 2H097KA03
, 2H097KA12
, 2H097LA10
, 5F056AA06
, 5F056AA22
, 5F056BD04
, 5F056CC08
, 5F056FA06
引用特許:
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