特許

J-GLOBAL ID：200903064413557570

ハーフトーン型位相シフトマスクおよびブランク

発明者： 原口 崇 ,  松尾 正 ,  福原 信彦 ,  金山 浩一郎 ,  山嵜 司
出願人/特許権者： 凸版印刷株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-198705
公開番号（公開出願番号）：特開2002-014458
出願日： 2000年06月30日
公開日（公表日）： 2002年01月18日
要約：

【要約】【課題】ガラス基板上に露光光に対して透明な領域と、位相および透過率が制御された半透明膜領域を設けたハーフトーン型位相シフトマスクの製造に用いられる半透明膜層を有するブランクに於いて、露光波長の短波長化や高透過率化に対応できるハーフトーン型位相シフトマスク及びブランクを提供する。【解決手段】半透明膜層に含まれる主要構成金属元素に対するシリコン元素の含有比率が、それら2元素が構成し得るシリサイド化合物のうち最もシリコンの含有比率が高い化学量論比率よりも、シリコンの含有比率が高くなっていることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

ガラス基板上に露光光に対して透明な領域と、位相および透過率が制御された半透明膜領域を設けたハーフトーン型位相シフトマスクの製造に用いられる半透明膜層を有するブランクに於いて、半透明膜層に含まれる主要構成金属元素に対するシリコン元素の含有比率が、それら2元素が構成し得るシリサイド化合物のうち最もシリコンの含有比率が高い化学量論比率よりも、シリコンの含有比率が高くなっていることを特徴とするブランク。

Fターム (1件)：

2H095BB03

引用特許：

審査官引用 (4件)

• スパッタリングタ-ゲット
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-075142   出願人：凸版印刷株式会社
• 位相シフトマスクの製造方法、及び位相シフトマスクブランクの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-060925   出願人：ホーヤ株式会社
• ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク及びハーフトーン型位相シフトマスク
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-274429   出願人：凸版印刷株式会社
• ハーフトーン型位相シフトマスクブランク及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-079434   出願人：凸版印刷株式会社