特許
J-GLOBAL ID：200903064437816666

金属化合物溶液及びこれを用いた薄膜の製造方法

発明者：
小野沢 和久

小野沢 和久 について

, 
山田 直樹

山田 直樹 について


出願人/特許権者：
旭電化工業株式会社

旭電化工業株式会社 について


代理人 (1件)： 羽鳥 修
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-039204
公開番号（公開出願番号）：特開2001-234343
出願日： 2000年02月17日
公開日（公表日）： 2001年08月31日
要約：
【要約】【課題】 溶液CVD法に適する安定性と濃度を有する金属化合物溶液、該溶液からなるCVD用原料及び該原料を用いた薄膜の製造方法を提供する。【解決手段】 下記一般式(I)で表される金属化合物を下記一般式(II)で表されるシクロヘキサン化合物に溶解させてなる溶液。【化1】(式中、R1 、R2 及びR3 は各々独立にハロゲン原子で置換されてもよく、鎖中に酸素原子を含んでもよい炭素数1〜8のアルキル基を表し、R4 は炭素数2〜18の分岐してもよいアルキレン基を表し、Mは鉛原子、チタニウム原子又はジルコニウム原子を表す;Mが鉛原子の場合、lは0、mは2、nは0を表し、Mがチタニウム原子又はジルコニウム原子の場合、nは0又は1を表し、l及びmは、l+m+2nが4である0〜4の整数を表す)【化2】(式中、R5 は水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を表し、pは1〜2の整数を表す)
請求項（抜粋）：
下記一般式(I)で表される金属化合物を下記一般式(II)で表されるシクロヘキサン化合物に溶解させてなる金属化合物溶液。【化1】(式中、R1 、R2 及びR3 は各々独立にハロゲン原子で置換されてもよく、鎖中に酸素原子を含んでもよい炭素数1〜8のアルキル基を表し、R4 は炭素数2〜18の分岐してもよいアルキレン基を表し、Mは鉛原子、チタニウム原子又はジルコニウム原子を表す;Mが鉛原子の場合、lは0、mは2、nは0を表し、Mがチタニウム原子又はジルコニウム原子の場合、nは0又は1を表し、l及びmは、l+m+2nが4である0〜4の整数を表す)【化2】(式中、R5 は水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を表し、pは1〜2の整数を表す)
IPC (7件)：
C23C 16/40 ,  H01L 21/31 ,  H01L 21/316 ,  C07C 49/92 ,  C07F 7/00 ,  C07F 7/24 ,  C07F 7/28
FI (7件)：
C23C 16/40 ,  H01L 21/31 B ,  H01L 21/316 X ,  C07C 49/92 ,  C07F 7/00 A ,  C07F 7/24 ,  C07F 7/28 F
Fターム (44件)：
4H006AA01 ,  4H006AB78 ,  4H006AB91 ,  4H006AB92 ,  4H049VN04 ,  4H049VN05 ,  4H049VN06 ,  4H049VP01 ,  4H049VQ19 ,  4H049VQ24 ,  4H049VR44 ,  4H049VU24 ,  4H049VV02 ,  4K030AA11 ,  4K030BA01 ,  4K030BA22 ,  4K030BA42 ,  4K030BA46 ,  4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030FA10 ,  4K030LA01 ,  4K030LA15 ,  5F045AA03 ,  5F045AA08 ,  5F045AA11 ,  5F045AB31 ,  5F045AC08 ,  5F045AC09 ,  5F045AD08 ,  5F045AD10 ,  5F045AE23 ,  5F045AF03 ,  5F045BB16 ,  5F045DC63 ,  5F045DP03 ,  5F045EE02 ,  5F058BA20 ,  5F058BC03 ,  5F058BC20 ,  5F058BF02 ,  5F058BF27 ,  5F058BF37 ,  5F058BJ01
引用特許：
審査官引用 (4件)
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