特許
J-GLOBAL ID：200903064574562248

極細線フォトレジスト用積層ポリエステルフィルム

発明者：
沢崎 真治

沢崎 真治 について

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谷口 主積

谷口 主積 について

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神田 弘治

神田 弘治 について

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松本 晃治

松本 晃治 について


出願人/特許権者：
東洋紡績株式会社

東洋紡績株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-297173
公開番号（公開出願番号）：特開2001-117237
出願日： 1999年10月19日
公開日（公表日）： 2001年04月27日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 透明性及び滑り性を同時に満足し、表面や端部のパターン形成性に優れるフォトレジスト層を形成させることが可能な支持体として極細線フォトレジスト用積層ポリエステルフィルムを提供する。【解決手段】 少なくとも2種類のポリエステル組成物が積層されてなる二軸配向積層ポリエステルフィルムであって、前記積層ポリエステルフィルムの少なくとも片面の表層に平均粒径0.01〜5.0μmの不活性粒子を80ppm以下含有し、かつ積層ポリエステルフィルム全体の不活性粒子の含有量が80ppm以下であり、さらに積層ポリエステルフィルムのヘーズが1.0%以下であることを特徴とする極細線フォトレジスト用積層ポリエステルフィルム。
請求項（抜粋）：
少なくとも2種類のポリエステル組成物が積層されてなる二軸配向積層ポリエステルフィルムであって、前記積層ポリエステルフィルムの少なくとも片面の表層に平均粒径0.01〜5.0μmの不活性粒子を80ppm以下含有し、かつ積層ポリエステルフィルム全体の不活性粒子の含有量が80ppm以下であり、さらに積層ポリエステルフィルムのヘーズが1.0%以下であることを特徴とする極細線フォトレジスト用積層ポリエステルフィルム。
IPC (5件)：
G03F 7/09 501 ,  B05D 5/00 ,  B05D 7/04 ,  G03F 7/004 512 ,  G03F 7/11 501
FI (5件)：
G03F 7/09 501 ,  B05D 5/00 Z ,  B05D 7/04 ,  G03F 7/004 512 ,  G03F 7/11 501
Fターム (18件)：
2H025AA02 ,  2H025AB11 ,  2H025AB15 ,  2H025DA19 ,  2H025DA20 ,  2H025DA21 ,  2H025DA38 ,  4D075AE03 ,  4D075BB07X ,  4D075CA09 ,  4D075CB06 ,  4D075DA04 ,  4D075DB48 ,  4D075DC22 ,  4D075EA01 ,  4D075EC35 ,  4D075EC53 ,  4D075EC54
引用特許：
審査官引用 (3件)

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