高分子薄膜とその製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：西澤利夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-321144
公開番号（公開出願番号）：特開2000-143705
出願日： 1998年11月11日
公開日（公表日）： 2000年05月26日
要約：

【要約】【課題】 50nm未満の超薄膜であってもその形成が容易であって、しかも表面平坦性を確保することができ、機能性膜としての利用性を高めることのできる高分子薄膜を提供する。【解決手段】固体表面に親和性を有する重合性の液状モノマーを含む多成分系液体に浸漬することにより固体表面に吸着された液状モノマーが重合されてなることを特徴とする高分子薄膜とする。

請求項（抜粋）：

固体表面に親和性を有する重合性の液状モノマーを含む多成分系液体に浸漬することにより固体表面に吸着された液状モノマーが重合されてなることを特徴とする高分子薄膜。

IPC (3件)：

C08F 2/00 , C08F 2/48 , C09D 4/00

FI (3件)：

C08F 2/00 C , C08F 2/48 , C09D 4/00

Fターム (23件)：

4J011AC04 , 4J011CA01 , 4J011CA02 , 4J011CA05 , 4J011CB00 , 4J011CC02 , 4J011CC10 , 4J038FA061 , 4J038FA081 , 4J038FA091 , 4J038FA101 , 4J038FA111 , 4J038FA191 , 4J038FA201 , 4J038KA03 , 4J038KA04 , 4J038KA06 , 4J038MA07 , 4J038MA09 , 4J038PA17 , 4J038PC02 , 4J038PC03 , 4J038PC08

引用特許：

審査官引用 (4件)

表面を改質するためのプラズマとγ線とを併用した照射重合方法
公報種別：公表公報出願番号：特願平8-520455 出願人：ユニヴァーシティオブフロリダリサーチファウンデーション,インコーポレイテッド
遊離基重合性組成物を重合させる方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-198055 出願人：ミネソタマイニングアンドマニュファクチャリングカンパニー
高分子成型体へのグラフト鎖導入法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-324650 出願人：東洋紡績株式会社

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