特許
J-GLOBAL ID：200903064655098783

気体供給用装置

発明者：
アンドリュー アイザック ジェフリーズ

アンドリュー アイザック ジェフリーズ について


出願人/特許権者：
トリコン ホールディングス リミティド

トリコン ホールディングス リミティド について


代理人 (1件)： 石田 敬 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-068658
公開番号（公開出願番号）：特開2000-306900
出願日： 2000年03月08日
公開日（公表日）： 2000年11月02日
要約：
【要約】【課題】 直径が極めて小さい穴を有するイオン化用プレートを備えている、プラズマ処理装置用の気体供給用装置を提供する。【解決手段】 本発明は、気体用入口と、プレナム空間と、孔の配列部を有していて前記プレナム空間の下流の端部を横切って広がっている気体供給用プレートまたはマニホルドとを具備する、プラズマ処理装置用の気体供給用装置において、該気体供給用装置が前記気体供給用プレートの下流側に隣接する別個のイオン化用プレートをさらに具備しており、該イオン化用プレートが、前記気体供給用プレート内の各孔と共に整列される開口部を備えて形成されている気体供給用装置に関する。
請求項（抜粋）：
気体用入口と、プレナム空間と、孔の配列部を有していて前記プレナム空間の下流の端部を横切って広がっている気体供給用プレートまたはマニホルドとを具備する、プラズマ処理装置用の気体供給用装置において、該気体供給用装置が前記気体供給用プレートの下流側に隣接する別個のイオン化用プレートをさらに具備しており、該イオン化用プレートが、前記気体供給用プレート内の各孔と共に整列される開口部を備えて形成されていることを特徴とする気体供給用装置。
IPC (4件)：
H01L 21/3065 ,  C23C 16/455 ,  H01L 21/205 ,  H05H 1/46
FI (4件)：
H01L 21/302 C ,  C23C 16/455 ,  H01L 21/205 ,  H05H 1/46 M
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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