製品設計および歩留りのフィードバックシステムに基づいた総括的な統合リソグラフィプロセス制御システム

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：鈴木正剛 , 佐野良太 , 村松義人
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-541539
公開番号（公開出願番号）：特表2006-501673
出願日： 2003年09月12日
公開日（公表日）： 2006年01月12日
要約：

本発明は、製造プロセスの実行を容易にするシステムおよび方法を提供する。クリティカルパラメータが総括的に品質行列として評価され、品質行列は1つ以上の設計目標に対するそれぞれのパラメータの重要性に応じて重み付けする。クリティカルパラメータは、製品設計、シミュレーション、試験結果、歩留りデータ、電気的データなどの情報に従って係数によって重み付けされる。次に、本発明は、現在の製造プロセスの複合的な「スコア」である品質指標を生成し得る。次に、制御システムが、品質指標と設計仕様を比較して、現在の製造プロセスが許容できるかどうかを判定し得る。プロセスが許容できない場合、実行中のプロセスの試験パラメータが変更され得、完了したプロセスについてプロセスが再処理および再実行され得る。このように、製品設計および歩留りに応じて、異なる仕様および品質指標についてデバイスのそれぞれの層をカスタマイズすることができる。

請求項（抜粋）：

制御可能に製造プロセスを実行するコントローラ(102)と、測定情報を取得すると共に前記コントローラ(102)によって制御されるプロセス装置(104)と、前記測定情報を総括的に解析して、前記情報を適切に重み付けし、前記製造プロセスが許容できるかどうかを判定する監視コンポーネント(106,304)と、を備えたプロセス制御システム(100,300)。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 , H01L 21/02

FI (3件)：

H01L21/30 502G , G03F7/20 521 , H01L21/02 Z

Fターム (4件)：

5F046AA28 , 5F046DA30 , 5F046DD01 , 5F046DD06

引用特許：

出願人引用 (10件)

汎用のプロセス作成ブロックを使用したコンピュータ利用のプロセス制御システム
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-206638 出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
特許第6301516号
特許第6351680号

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