特許
J-GLOBAL ID：200903065182229873

透明導電膜の製造方法

発明者：
口山 崇

口山 崇 について

, 
山本 憲治

山本 憲治 について


出願人/特許権者：
株式会社カネカ

株式会社カネカ について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-029941
公開番号（公開出願番号）：特開2009-193673
出願日： 2008年02月12日
公開日（公表日）： 2009年08月27日
要約：
【課題】透明導電膜の高性能化には、光学設計による反射防止が有効であるが、該透明導電膜には十分な導電性を備え、かつ光学設計の自由度の高い材料が必要である。【解決手段】水素またはアルゴンに二酸化炭素を50体積%以下添加したガスをキャリアガスとして使用するマグネトロンスパッタにより、透明基板上に酸化亜鉛を主成分とする透明導電酸化物層の表面に屈折率を1.35〜1.85に制御したカーボン膜を形成することが可能となる。 【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
透明基板上に酸化亜鉛を主成分とする透明導電酸化物層の表面に屈折率が1.35〜1.85の範囲の値を有するカーボン膜を有する透明導電膜の製造方法において、該カーボン膜がカーボンをターゲットとしたマグネトロンスパッタ法により形成され、且つキャリアガスとして、水素またはアルゴン中に二酸化炭素を50体積%以下添加することを特徴とする透明導電膜の製造方法。
IPC (2件)：
H01B 13/00 ,  C23C 14/06
FI (2件)：
H01B13/00 503B ,  C23C14/06 P
Fターム (17件)：
4K029AA07 ,  4K029AA09 ,  4K029AA11 ,  4K029AA24 ,  4K029BA34 ,  4K029BA49 ,  4K029BB02 ,  4K029BC09 ,  4K029BD01 ,  4K029CA05 ,  4K029CA06 ,  4K029DC34 ,  4K029DC35 ,  4K029DC39 ,  5G323BA02 ,  5G323BA05 ,  5G323BB05
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (4件)
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