オフアクシス照明を回転ダイポールアパーチャ及び偏光アパーチャと共用することによるパターン短絡の防止

発明者： , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：矢野敏雄 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-512528
公開番号（公開出願番号）：特表平11-512569
出願日： 1996年09月03日
公開日（公表日）： 1999年10月26日
要約：

【要約】バイアスされたマスクを作成することなくパターン短絡を防止する装置と方法により、半導体デバイス製造におけるフォトリソグラフィープロセスでの露光動作中の方向依存差異が解決される。この露光課題を解決するために、バイアスされたマスクの設計によらず、露光プロセス自体に影響を与えることでパターン短絡現象が防止される。オフアクシス照明技術を利用することにより露光が異なる方向に分割される。実施例の1つにおいては、オフアクシス照明が特殊なダイポールアパーチャ(2個の開口部)と共に適用される。露光は2つ以上の部分で行われ、アパーチャが露光間で回転される。別の実施例では、オフアクシス照明が特殊な偏光アパーチャと共に使用される。第1の実施例と同様、露光は2つ以上の部分で行われるが、この場合異なって偏光された光が使用される。

請求項（抜粋）：

光源と、フォトマスクと、レンズ系と、アパーチャプレートを具備した、半導体デバイス製造におけるデバイス基板上の感光性フィルムのフォトリソグラフィー露光のためのオフアクシス照明装置において、前記光源により感光性フィルムが露光され、前記フォトマスクは金属層にエッチングされたパターンの拡大像を有し、光源と露光用感光性フィルムの間に配設されており、前記レンズ系は前記フォトマスクとレジスト間に配設され、該レンズ系により、照明された像の寸法がデバイス基板上の感光性フィルムへのパターニングのために縮小され、前記アパーチャプレートは光源とフォトマスク間に配設されており、このアパーチャプレートにより感光性フィルムのオフアクシス露光が2つ以上の露光に分割され、それぞれの露光が別々に最適化されることにより、感光性フィルム上に投影されたフォトマスク像におけるパターン短絡が防止されるよう構成された、オフアクシス照明装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 515 D , G03F 7/20 521

引用特許：

審査官引用 (3件)

光投影露光方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-141755 出願人：富士通株式会社
露光方法及び露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-354150 出願人：株式会社東芝
投影露光
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-060593 出願人：富士通株式会社

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