特許
J-GLOBAL ID：200903065456343538

成膜装置

発明者：
河西 繁

河西 繁 について

, 
掛川 崇

掛川 崇 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-030877
公開番号（公開出願番号）：特開2002-327274
出願日： 2002年02月07日
公開日（公表日）： 2002年11月15日
要約：
【要約】【課題】 シャワーヘッドを短時間で所望の温度にすることができ、かつシャワーヘッドの温度安定性が高い成膜装置を提供すること。【解決手段】 被処理基板Wに成膜処理を施すチャンバー2と、チャンバー2内で被処理基板Wを載置する載置台3と、載置台3に対向して設けられた多数のガス吐出孔を有するシャワーヘッド10と、シャワーヘッド10を介してチャンバー2内に処理ガスを供給するガス供給機構30と、シャワーヘッド10の温度を制御するシャワーヘッド温度制御手段60とを具備する。
請求項（抜粋）：
被処理基板に成膜処理を施すチャンバーと、チャンバー内で被処理基板を載置する載置台と、前記載置台に対向して設けられた多数のガス吐出孔を有するシャワーヘッドと、前記シャワーヘッドを介してチャンバー内に処理ガスを供給するガス供給機構と、前記シャワーヘッドの温度を制御するシャワーヘッド温度制御手段とを具備することを特徴とする成膜装置。
IPC (3件)：
C23C 16/455 ,  H01L 21/28 301 ,  H01L 21/285
FI (3件)：
C23C 16/455 ,  H01L 21/28 301 R ,  H01L 21/285 C
Fターム (13件)：
4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030EA04 ,  4K030JA10 ,  4K030KA22 ,  4K030KA23 ,  4K030KA25 ,  4K030KA39 ,  4K030KA41 ,  4M104BB14 ,  4M104BB30 ,  4M104DD44 ,  4M104DD45
引用特許：
審査官引用 (6件)
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