特許
J-GLOBAL ID：200903020188408016
プラズマ処理装置及びプラズマ処理装置のメンテナンス方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高田 幸彦 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-072577
公開番号（公開出願番号）：特開2000-269183
出願日： 1999年03月17日
公開日（公表日）： 2000年09月29日
要約：
【要約】【課題】 処理室内部の部品交換やメンテナンス作業が容易に行えるプラズマ処理装置及びプラズマ処理方法を提供する。【解決手段】 内部に処理室100が形成された真空容器と、前記処理室内にプラズマを発生させるためのプラズマ発生装置110、101と、前記処理室内で処理される試料を保持する電極とを有するプラズマ処理装置において、前記真空容器の上部壁の一部を開閉可能部分とし、該開閉可能部分に前記プラズマ処理装置を構成する部品の少なくとも1つ(110)を配置し、前記開閉可能部分の処理室内部側が、該開閉可能部分の開放時に、前記部品を保持したまま、上方に向いた角度に開放されるプラズマ処理装置。
請求項（抜粋）：
内部に処理室が形成された真空容器と、前記処理室内にプラズマを発生させるためのプラズマ発生装置と、前記処理室内で処理される試料を保持する電極とを有するプラズマ処理装置において、前記真空容器の上部壁の一部を開閉可能部分とし、該開閉可能部分に前記プラズマ処理装置を構成する部品の少なくとも1つを配置し、前記開閉可能部分の処理室内部側が、該開閉可能部分の開放時に、前記部品を保持したまま、上方に向いた角度に開放されることを特徴とするプラズマ処理装置。
Fターム (19件)：
5F004AA00
, 5F004BA04
, 5F004BA14
, 5F004BA16
, 5F004BA20
, 5F004BB11
, 5F004BB13
, 5F004BB14
, 5F004BB18
, 5F004BB22
, 5F004BB28
, 5F004BB29
, 5F004BB30
, 5F004BC08
, 5F004CA06
, 5F004DA00
, 5F004DA23
, 5F004DA26
, 5F004DB00
