特許
J-GLOBAL ID：200903065574487579

感刺激性組成物、化合物及び感刺激性組成物を用いたパターン形成方法

発明者：
児玉 邦彦

児玉 邦彦 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-314219
公開番号（公開出願番号）：特開2005-084240
出願日： 2003年09月05日
公開日（公表日）： 2005年03月31日
要約：
【課題】 PEB温度依存性が小さく、コンタクトホールの解像力、プロファイルが改良された感刺激性組成物及びそれを用いたパターン形成方法、また、200nm以下、特にF2レーザー光(157nm)の露光波長においてPEB温度依存性が小さく、コンタクトホールの解像力、プロファイルが改良された感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法、更には、これらの組成物を提供すべく、外部からの刺激により酸又はラジカルを発生する新規な化合物(A)を提供する。【解決手段】 外部からの刺激により酸又はラジカルを発生する特定構造の化合物(A)を含有する感刺激性組成物及びそれを用いたパターン形成方法、及び特定構造の化合物(A)。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
外部からの刺激により酸又はラジカルを発生する下記一般式(I)で表される化合物を含有することを特徴とする感刺激性組成物。
IPC (2件)：
G03F7/004 ,  H01L21/027
FI (2件)：
G03F7/004 503A ,  H01L21/30 502R
Fターム (14件)：
2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB17 ,  2H025CB29 ,  2H025CC20 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17
引用特許：
出願人引用 (3件)

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