特許
J-GLOBAL ID：200903065723176069

ステージ装置および露光装置

発明者：
田中 慶一

田中 慶一 について

, 
河野 寿之

河野 寿之 について

, 
龍 政彦

龍 政彦 について


出願人/特許権者：
株式会社安川電機

株式会社安川電機 について

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株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (2件)： 古谷 史旺 ,  森 俊秀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-231882
公開番号（公開出願番号）：特開2007-048956
出願日： 2005年08月10日
公開日（公表日）： 2007年02月22日
要約：
【課題】 本発明は、基台上にステージベースを備えたステージ装置およびこのステージ装置を備えた露光装置に関し、ステージベースの変形を従来より大幅に低減することを目的とする。【解決手段】 基台上にステージベースを配置するとともに、前記ステージベース上に配置されるガイド部材に沿ってスライダを案内し、前記スライダの移動によりステージを移動するステージ装置において、前記基台上に前記ステージベースを支持する支持手段と、前記ステージベースを押圧するとともに押圧力を制御可能な押圧手段と、前記ステージベースの傾きを検出する傾斜検出手段と、前記傾斜検出手段からの信号に基づいて前記押圧手段の前記押圧力を制御する制御手段とを有することを特徴とする。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
基台上にステージベースを配置するとともに、前記ステージベース上に配置されるガイド部材に沿ってスライダを案内し、前記スライダの移動によりステージを移動するステージ装置において、 前記基台上に前記ステージベースを支持する支持手段と、 前記ステージベースを押圧するとともに押圧力を制御可能な押圧手段と、 前記ステージベースの傾きを検出する傾斜検出手段と、 前記傾斜検出手段からの信号に基づいて前記押圧手段の前記押圧力を制御する制御手段と、 を有することを特徴とするステージ装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 ,  H01L 21/68
FI (3件)：
H01L21/30 503A ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/68 K
Fターム (10件)：
5F031HA57 ,  5F031JA30 ,  5F031JA51 ,  5F031LA06 ,  5F031LA11 ,  5F046BA03 ,  5F046CC01 ,  5F046CC02 ,  5F046CC19 ,  5F046DA27
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (4件)
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