特許

J-GLOBAL ID：200903065757729156

基板洗浄方法及びその装置

発明者： 森西 健也 ,  大谷 正美 ,  西村 譲一 ,  森田 彰彦
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-286730
公開番号（公開出願番号）：特開平11-121421
出願日： 1997年10月20日
公開日（公表日）： 1999年04月30日
要約：

【要約】【課題】 基板面内における洗浄液供給位置に応じて洗浄条件を変えることにより、基板の全面にわたって均一に洗浄処理を施すことができる。【解決手段】 スピンチャック1で回転されている基板Wに対して、超音波振動が付与された洗浄液Sをノズル7から吐出させ、ノズル7を昇降/移動機構11で移動させて洗浄処理を施す基板洗浄装置において、超音波の出力を可変する増幅器33と、基板W面内における洗浄液供給位置に応じて、増幅器33により洗浄液Sに付与される超音波の出力を調節するコントローラ29とを備えている。これにより洗浄度合いを一定にすることができ、基板Wの全面にわたって均一に洗浄を行うことができる。

請求項（抜粋）：

回転している基板に対して、超音波振動が付与された洗浄液をノズルから吐出させ、その吐出された洗浄液の基板面内における供給位置が、少なくとも基板中心と基板周縁との間を移動するように、前記ノズルを移動手段により移動させて洗浄処理を施す基板洗浄方法において、洗浄液に付与する超音波の周波数、出力の少なくとも一方を、基板面内における洗浄液の供給位置に応じて変更するようにしたことを特徴とする基板洗浄方法。

IPC (4件)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  B08B 3/02 ,  B08B 3/12

FI (4件)：

H01L 21/304 341 N ,  H01L 21/304 341 S ,  B08B 3/02 B ,  B08B 3/12 A

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 特開平4-213827
  
• 基板洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-010558   出願人：東京応化工業株式会社
• 半導体基板の洗浄方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-284790   出願人：株式会社東芝, 東芝マイクロエレクトロニクス株式会社
• 基板洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-339304   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• ウエハ洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-347410   出願人：株式会社リコー