特許
J-GLOBAL ID：200903065851296530

電子線又はX線用ネガ型レジスト組成物

発明者：
青合 利明

青合 利明 について

, 
阿出川 豊

阿出川 豊 について

, 
八木原 盛夫

八木原 盛夫 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (1件)： 小栗 昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-219253
公開番号（公開出願番号）：特開2002-040656
出願日： 2000年07月19日
公開日（公表日）： 2002年02月06日
要約：
【要約】【課題】 電子線又はX線を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、電子線又はX線の使用に対して感度と解像度、レジスト形状の特性を満足する電子線又はX線用ネガ型化学増幅系レジスト組成物を提供すること。【解決手段】 電子線又はX線の照射により、ラジカル種を発生する化合物、水不溶でアルカリ水溶液に可溶な樹脂、及び特定のモノマーを含有する電子線又はX線用ネガ型化学増幅系レジスト組成物。
請求項（抜粋）：
(A)電子線又はX線の照射により、ラジカル種を発生する化合物、(B)水不溶でアルカリ水溶液に可溶な樹脂、(C)ラジカルにより重合可能な不飽和結合を少なくとも1個有する化合物、を含有することを特徴とする電子線又はX線用ネガ型レジスト組成物。
IPC (7件)：
G03F 7/038 501 ,  G03F 7/038 502 ,  C08F 2/44 ,  C08F 2/54 ,  C08F290/00 ,  G03F 7/033 ,  H01L 21/027
FI (7件)：
G03F 7/038 501 ,  G03F 7/038 502 ,  C08F 2/44 C ,  C08F 2/54 ,  C08F290/00 ,  G03F 7/033 ,  H01L 21/30 502 R
Fターム (32件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AD01 ,  2H025BC03 ,  2H025BC13 ,  2H025BC19 ,  2H025BC42 ,  2H025BC83 ,  2H025BC86 ,  2H025CA48 ,  2H025CB16 ,  2H025CB17 ,  2H025CB45 ,  4J011PA65 ,  4J011QA03 ,  4J011QA12 ,  4J011QA22 ,  4J011QB01 ,  4J011UA03 ,  4J011UA04 ,  4J027AA08 ,  4J027BA07 ,  4J027BA19 ,  4J027BA20 ,  4J027BA22 ,  4J027BA24 ,  4J027BA26 ,  4J027CA21 ,  4J027CD10
引用特許：
審査官引用 (5件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM