特許
J-GLOBAL ID：200903065875122231
光導波路及びその製造方法並びに光回路
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
光石 俊郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-227907
公開番号（公開出願番号）：特開平10-068833
出願日： 1996年08月29日
公開日（公表日）： 1998年03月10日
要約：
【要約】【課題】 光通信、光信号処理、光計測分野に用いられる光導波路及びその製造方法、並びに該光導波路を有する1.3μm帯及び1.55 μm帯等における信号光の例えば光合分波回路、波長選択回路、レーザ光源回路、方向性結合器、マッハツェンダ干渉計、レリーフ型ブラッググレーティング等の光回路を提供する。【解決手段】 平面基板上に形成された光を伝搬する溝加工により形成してなるコア15と、該コア15より屈折率の低いクラッド層16とにより構成される光導波路であって、前記コア15の上面部にフォトポリマ材料からなるクラッド層16を構成してなる。
請求項（抜粋）：
平面基板上に形成された光を伝搬するコアと、該コアより屈折率の低いクラッドとにより構成される光導波路の製造方法において、前記平面基板上に下部クラッド層を形成した後、該下部クラッド層にコアとなる溝構造を形成し、前記コアを前記溝構造を形成した下部クラッド層の上に形成した後、石英系コア層の溝部分以外を除去し、前記コアを含む部分の上部にフォトポリマ材料による上部クラッド層を形成することを特徴とする光導波路の製造方法。
IPC (3件)：
G02B 6/13
, G02B 6/122
, G02B 6/12
G02B 6/12 M
, G02B 6/12 D
, G02B 6/12 A
, G02B 6/12 F
