特許
J-GLOBAL ID：200903065895052256

基板の洗浄処理装置及び洗浄処理方法

発明者：
菊池 勉

菊池 勉 について

, 
長嶋 裕次

長嶋 裕次 について


出願人/特許権者：
芝浦メカトロニクス株式会社

芝浦メカトロニクス株式会社 について


代理人 (8件)： 鈴江 武彦 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  蔵田 昌俊 ,  峰 隆司 ,  福原 淑弘 ,  村松 貞男 ,  橋本 良郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-021150
公開番号（公開出願番号）：特開2007-201374
出願日： 2006年01月30日
公開日（公表日）： 2007年08月09日
要約：
【課題】断熱膨張によって生成される基板洗浄用の固体粒子の粒径を基板の表面状態などに応じて制御できるようにした洗浄処理装置を提供することにある。【解決手段】基板を洗浄処理するための洗浄処理装置であって、 基板が供給されるチャンバ16と、断熱膨張させることで固体粒子を生成する流体をチャンバ内の基板に向けて供給するノズル体28と、ノズル体によって供給される固体粒子の粒径を制御する湿度制御手段36及び温度制御手段37を具備する。【選択図】 図3
請求項（抜粋）：
基板を洗浄処理するための洗浄処理装置であって、 上記基板が供給されるチャンバと、 断熱膨張させることで固体粒子を生成する流体を上記チャンバ内の基板に向けて供給する流体供給手段と、 この流体供給手段によって供給される上記固体粒子の粒径を制御する粒径制御手段と を具備したことを特徴とする洗浄処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/304 ,  B08B 7/00 ,  G02F 1/13
FI (3件)：
H01L21/304 643Z ,  B08B7/00 ,  G02F1/13 101
Fターム (16件)：
2H088FA21 ,  2H088FA30 ,  2H088MA20 ,  3B116AA02 ,  3B116AA03 ,  3B116AB03 ,  3B116AB34 ,  3B116AB48 ,  3B116BA06 ,  3B116BB22 ,  3B116BB32 ,  3B116BB38 ,  3B116BB82 ,  3B116BB88 ,  3B116CD42 ,  3B116CD43
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (6件)
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