基板の洗浄処理装置及び洗浄処理方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (8件)：鈴江武彦 , 河野哲 , 中村誠 , 蔵田昌俊 , 峰隆司 , 福原淑弘 , 村松貞男 , 橋本良郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-021150
公開番号（公開出願番号）：特開2007-201374
出願日： 2006年01月30日
公開日（公表日）： 2007年08月09日
要約：

【課題】断熱膨張によって生成される基板洗浄用の固体粒子の粒径を基板の表面状態などに応じて制御できるようにした洗浄処理装置を提供することにある。【解決手段】基板を洗浄処理するための洗浄処理装置であって、基板が供給されるチャンバ16と、断熱膨張させることで固体粒子を生成する流体をチャンバ内の基板に向けて供給するノズル体28と、ノズル体によって供給される固体粒子の粒径を制御する湿度制御手段36及び温度制御手段37を具備する。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

基板を洗浄処理するための洗浄処理装置であって、上記基板が供給されるチャンバと、断熱膨張させることで固体粒子を生成する流体を上記チャンバ内の基板に向けて供給する流体供給手段と、この流体供給手段によって供給される上記固体粒子の粒径を制御する粒径制御手段とを具備したことを特徴とする洗浄処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/304 , B08B 7/00 , G02F 1/13

FI (3件)：

H01L21/304 643Z , B08B7/00 , G02F1/13 101

Fターム (16件)：

2H088FA21 , 2H088FA30 , 2H088MA20 , 3B116AA02 , 3B116AA03 , 3B116AB03 , 3B116AB34 , 3B116AB48 , 3B116BA06 , 3B116BB22 , 3B116BB32 , 3B116BB38 , 3B116BB82 , 3B116BB88 , 3B116CD42 , 3B116CD43

引用特許：

出願人引用 (1件)

洗浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-075845 出願人：オリンパス光学工業株式会社

審査官引用 (6件)

洗浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-321004 出願人：ソニー株式会社
CO2粒子による無菌化装置及びCO2粒子による無菌化方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-030287 出願人：株式会社ユーテック, 大日本印刷株式会社
半導体基板の表面処理方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-294023 出願人：株式会社カイジョー

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