特許

J-GLOBAL ID：200903044261455113

プラズマ処理の異常監視システム

発明者： 屋良 卓也
出願人/特許権者： 積水化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-300316
公開番号（公開出願番号）：特開2005-072263
出願日： 2003年08月25日
公開日（公表日）： 2005年03月17日
要約：

【課題】 プラズマ処理異常の精確に監視し、異常が検出された場合には、迅速に対処して、被処理基板の汚染を最小限に抑えることができるプラズマ処理の異常監視システムを提供する。【解決手段】 プラズマ処理装置の異常監視システムであって、プラズマ処理部近傍において、プラズマ処理により発生するパーティクル量を計測するパーティクル計測手段と、前記パーティクル計測手段による計測結果に基づいて、プラズマ処理における異常発生を検出する異常検出手段とを備えていることを特徴とするシステム。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

プラズマ処理装置の異常監視システムであって、 プラズマ処理部近傍において、プラズマ処理により発生するパーティクル量を計測するパーティクル計測手段と、 前記パーティクル計測手段による計測結果に基づいて、プラズマ処理における異常発生を検出する異常検出手段とを備えていることを特徴とするシステム。

IPC (6件)：

H01L21/3065 ,  C23C14/00 ,  C23C16/44 ,  C23F4/00 ,  H01L21/205 ,  H05H1/00

FI (6件)：

H01L21/302 103 ,  C23C14/00 B ,  C23C16/44 J ,  C23F4/00 A ,  H01L21/205 ,  H05H1/00 A

Fターム (32件)：

4K029AA06 ,  4K029AA24 ,  4K029BD01 ,  4K029DA09 ,  4K029EA00 ,  4K029EA09 ,  4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030DA06 ,  4K030JA17 ,  4K030JA20 ,  4K030KA39 ,  4K030KA41 ,  4K057DA01 ,  4K057DA16 ,  4K057DB06 ,  4K057DD01 ,  4K057DJ08 ,  4K057DM36 ,  4K057DM38 ,  4K057DM40 ,  4K057DN01 ,  5F004AA13 ,  5F004BA20 ,  5F004BC08 ,  5F004BD04 ,  5F004BD05 ,  5F004CB20 ,  5F045AA03 ,  5F045BB15 ,  5F045DP03 ,  5F045GB04

引用特許：

出願人引用 (4件)

• プラズマ処理方法およびその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-063718   出願人：株式会社日立製作所
• ドライエッチングの終点検出方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-096962   出願人：株式会社リコー
• プラズマ処理装置のパラメータ監視システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-086895   出願人：株式会社日立製作所
• 大気圧プラズマ表面処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-230768   出願人：神鋼電機株式会社