特許

J-GLOBAL ID：200903065969516985

酸発生剤及びレジスト組成物

発明者： 山口 訓史 ,  上谷 保則 ,  森馬 洋
出願人/特許権者： 住友化学工業株式会社
代理人 (3件)： 久保山 隆 ,  中山 亨 ,  榎本 雅之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-208588
公開番号（公開出願番号）：特開2004-203858
出願日： 2003年08月25日
公開日（公表日）： 2004年07月22日
要約：

【課題】新規な塩と樹脂成分を含有し、エキシマレーザーリソグラフィに適した、レジスト性能が良好であるとともに、改善されたラインエッジラフネスを与え、かつパターンプロファイルの良好な化学増幅型のポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】〔1〕下式(I)で示される塩。(式中、Q1、Q2、Q3、Q4及びQ5は、互いに独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、アリール基、アラルキル基、シアノ基、スルフィド基、ヒドロキシ基、ニトロ基又は下式(I')で示される基を表す。Q1、Q2、Q3、Q4及びQ5のうち少なくとも一つは、下式(I')で示される基である。A+は、対イオンを表す。式中、Xは、アルキレン基、エーテル結合を含むアルキレン基を表し、Cy1は、脂環式炭化水素基を表す。)〔2〕酸の作用でアルカリ水溶液に可溶となる樹脂、及び前記の〔1〕記載の塩を含有する化学増幅型ポジ型レジスト組成物。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

下式(I)で示される塩。

IPC (7件)：

C07C381/12 ,  C07C309/58 ,  C07C309/61 ,  C08F220/18 ,  C09K3/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039

FI (7件)：

C07C381/12 ,  C07C309/58 ,  C07C309/61 ,  C08F220/18 ,  C09K3/00 K ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601

Fターム (35件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB16 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CC04 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB76 ,  4H006AB92 ,  4J100AB02R ,  4J100AB07Q ,  4J100AK32R ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100BA03Q ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC53Q ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 化学増幅型ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-311246   出願人：住友化学工業株式会社
• 化学増幅型ポジ型レジスト組成物及びスルホニウム塩
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-184546   出願人：住友化学工業株式会社
• レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-233216   出願人：富士写真フイルム株式会社
• N-スルホニルオキシイミド化合物およびそれを用いた感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-336666   出願人：ジェイエスアール株式会社