特許
J-GLOBAL ID：200903003105857033
化学増幅型ポジ型レジスト組成物
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
久保山 隆
, 中山 亨
, 榎本 雅之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-311246
公開番号（公開出願番号）：特開2004-109959
出願日： 2002年10月25日
公開日（公表日）： 2004年04月08日
要約：
【課題】高感度、高解像力を有し、特に改善されたラインエッジラフネスを与える、電子線、EUVリソグラフィなどに適した化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】p-ヒドロキシスチレンから導かれる重合単位及び下式(Ia)、(Ib)のいずれかで示される酸に不安定な基を持つ重合単位を有し、それ自身はアルカリ水溶液に不溶又は難溶であるが、上記酸に不安定な基が酸の作用により解裂した後はアルカリ水溶液に可溶となる樹脂、感放射性酸発生剤としてN-ヒドロキシイミド化合物のスルホン酸エステルとオニウム塩とを含有する化学増幅型ポジ型レジスト組成物。(式中、R1、R2は、それぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、R3〜R5は、それぞれ独立に炭素数1〜8のアルキル基を表す。)【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
p-ヒドロキシスチレンから導かれる重合単位及び下式(Ia)、(Ib)のいずれかで示される酸に不安定な基を持つ重合単位を有し、それ自身はアルカリ水溶液に不溶又は難溶であるが、上記酸に不安定な基が酸の作用により解裂した後はアルカリ水溶液に可溶となる樹脂、感放射性酸発生剤としてN-ヒドロキシイミド化合物のスルホン酸エステルとオニウム塩とを含有することを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F7/039
, G03F7/004
, H01L21/027
G03F7/039 601
, G03F7/004 503A
, H01L21/30 502R
2H025AA01
, 2H025AA02
, 2H025AA03
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC06
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BE07
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CB14
, 2H025CB16
, 2H025CB17
, 2H025CB41
, 2H025CC20
, 2H025FA10
, 2H025FA17
