膜形成装置

発明者： , , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：金本哲男 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-382481
公開番号（公開出願番号）：特開2001-239203
出願日： 2000年12月15日
公開日（公表日）： 2001年09月04日
要約：

【要約】【課題】塗布液吐出ノズルを高速移動させても支障が無く,かつ,当該ノズルを交換自在とする。【解決手段】レジスト液の吐出時に吐出ノズル85を保持するホルダ100をL字型に形成する。このL字型の垂直部100aの内側面には,吸着凹部100cを形成し,その中心付近には吸引口100dを設ける。この吸引口100dに通じる吸引経路100eを垂直部100a内部に垂直に設ける。この吸引経路100eに通じる吸引管100fを垂直部100aの上部に設ける。そして,この吸引管100fから吸引し,吐出ノズル85を吸着保持する。また,吐出ノズル85の移動方向に対し垂直方向でかつ水平方向に凸部100g,100hを設け,吐出ノズル85の凹部と嵌合させる。

請求項（抜粋）：

塗布液吐出ノズルから,基板に塗布液を吐出して,この基板表面に膜を形成する膜形成装置であって,前記基板に対して平行な所定方向に往復移動自在で,前記塗布液吐出ノズルを保持する塗布液吐出ノズル保持部材を有し,前記塗布液吐出ノズルと前記塗布液吐出ノズル保持部材が着脱自在に構成されており,前記塗布液吐出ノズル保持部材は,前記塗布液吐出ノズルの一部を吸着する吸引手段を有することを特徴とする,基板の膜形成装置。

IPC (3件)：

B05C 11/10 , B05C 5/02 , B05C 11/08

FI (3件)：

B05C 11/10 , B05C 5/02 , B05C 11/08

引用特許：

審査官引用 (14件)

基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-057838 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
特開平1-216785
特開昭57-194892

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