特許
J-GLOBAL ID：200903066166625072

載置台及び真空処理装置

発明者：
岡山 信幸

岡山 信幸 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 井上 俊夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-089923
公開番号（公開出願番号）：特開2007-266342
出願日： 2006年03月29日
公開日（公表日）： 2007年10月11日
要約：
【課題】ウエハW等の被処理基板の冷媒による冷却効率を向上させることが可能な載置台、及びこの載置台を備えたプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】ウエハW等の被処理基板が載置される載置台1は、セラミックプレート2が支持部材4(金属部材)の上に積層された構成となっている。セラミックプレート2は、表面近傍に埋設された静電チャック用の電極(シート状電極22)と、下面に形成された溝部とを有している。このセラミックプレート2と支持部材4とを接着層3を介して接合することにより、冷媒が通流する冷媒流路23が形成される。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
被処理基板が載置され、静電チャック用の電極が埋設されたセラミックプレートが金属部材の上に積層された載置台において、 前記セラミックプレートの下面及び前記金属部材の上面のうちの少なくとも一方に冷媒流路形成用の溝部が加工され、セラミックプレートと金属部材とが接着層を介して接合されていることを特徴とする載置台。
IPC (3件)：
H01L 21/306 ,  H01L 21/683 ,  C23C 16/46
FI (3件)：
H01L21/302 101G ,  H01L21/68 R ,  C23C16/46
Fターム (17件)：
4K030CA04 ,  4K030FA10 ,  4K030JA10 ,  4K030KA23 ,  4K030KA26 ,  4K030LA15 ,  5F004BA04 ,  5F004BB22 ,  5F004BB25 ,  5F031CA02 ,  5F031HA02 ,  5F031HA03 ,  5F031HA16 ,  5F031HA38 ,  5F031MA28 ,  5F031MA32 ,  5F031PA11
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (5件)
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