特許
J-GLOBAL ID：200903033945484870

プラズマ処理装置、フォーカスリング及び被処理体の載置装置

発明者：
遠藤 昇佐

遠藤 昇佐 について

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岩渕 紀之

岩渕 紀之 について

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加藤 茂昭

加藤 茂昭 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 渡部 敏彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-115807
公開番号（公開出願番号）：特開2005-064460
出願日： 2004年04月09日
公開日（公表日）： 2005年03月10日
要約：
【課題】 コストの上昇を防止すると共に、フォーカスリングの冷却効率を飛躍的に改善することができるプラズマ処理装置、フォーカスリング及び被処理体の載置装置を提供する。 【解決手段】 プラズマ処理装置に用いられる被処理体の載置装置は、高周波電力が印加されるサセプタ11と、サセプタ11の上面に配置される静電チャック25と、該静電チャック25の外周部25bに載置されるフォーカスリング30とから成り、静電チャック25は、フォーカスリング30が載置される外周部25bの内部において直流電源28と接続される電極板25dを有し、フォーカスリング30は、外周部25bと接触する接触部を形成する二酸化珪素から成る誘電体部30aと、該誘電体部30aを介して外周部25bに対向するシリコンから成る導電体部30bとを有する。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
プラズマ処理が施される被処理体を載置する静電チャックと、該静電チャックに接触部にて接触するフォーカスリングとを有する被処理体の載置装置を備えるプラズマ処理装置において、 前記フォーカスリングは、前記接触部を形成する誘電体部と、該誘電体部を介して前記静電チャックに対向する導電体部とを有することを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (3件)：
H01L21/3065 ,  H01L21/68 ,  H05H1/46
FI (3件)：
H01L21/302 101G ,  H01L21/68 R ,  H05H1/46 A
Fターム (16件)：
5F004BA04 ,  5F004BB22 ,  5F004BB23 ,  5F004BB25 ,  5F004BB29 ,  5F004BD01 ,  5F004DA22 ,  5F004DB02 ,  5F004DB03 ,  5F031CA02 ,  5F031HA16 ,  5F031HA39 ,  5F031HA40 ,  5F031MA28 ,  5F031MA32 ,  5F031PA11
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (5件)
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