研磨用組成物

発明者： , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：小谷悦司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-315059
公開番号（公開出願番号）：特開2001-131535
出願日： 1999年11月05日
公開日（公表日）： 2001年05月15日
要約：

【要約】【課題】高い研磨速度を維持しつつ、しかも表面欠陥のない高品質な研磨面が得られる研磨用組成物を提供する。【解決手段】水、研磨剤粉末、及び有機ホスホン酸系キレート性化合物を含有する研磨用組成物である。

請求項（抜粋）：

水、研磨剤粉末、及び有機ホスホン酸系キレート性化合物を含有することを特徴とする研磨用組成物。

IPC (3件)：

C09K 3/14 550 , C09K 3/14 , G11B 5/84

FI (3件)：

C09K 3/14 550 D , C09K 3/14 550 Z , G11B 5/84 A

Fターム (3件)：

5D112AA24 , 5D112GA09 , 5D112GA14

引用特許：

出願人引用 (5件)

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審査官引用 (5件)

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