特許
J-GLOBAL ID：200903066510555054

基板表面に関する高さデータを取得する方法及びリソグラフィ装置

発明者：
スタールズ,フランク

スタールズ,フランク について

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ミンナールト,アーサー,ウィンフライト,エンドゥアルドゥス

ミンナールト,アーサー,ウィンフライト,エンドゥアルドゥス について

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テウニッセン,パウルス,アントニウス,アンドレアス

テウニッセン,パウルス,アントニウス,アンドレアス について


出願人/特許権者：
エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. について


代理人 (2件)： 稲葉 良幸 ,  大貫 敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-049995
公開番号（公開出願番号）：特開2009-239274
出願日： 2009年03月04日
公開日（公表日）： 2009年10月15日
要約：
【課題】投影システムの焦点面に対して基板のターゲット部分を配置する方法を提供する。【解決手段】方法は、レベルセンサを使用して、基板の少なくとも一部の高さ測定を実行し、高さデータを生成する。指定及び/又は予め割り出された補正高さを使用して、補正済み高さデータを計算する。予め割り出された補正高さを使用は、プロセススタックデータに少なくとも部分的に基づいてよい。基板テーブルの位置は、プロセススタックデータに、特にターゲット区域のプロセススタック層に部分的に基づく補正高さを使用して制御される。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
投影システムの焦点面に対して基板の少なくとも1つのターゲット部分を配置する方法であって、 前記基板の少なくとも一部の高さ測定を実行して、高さデータを生成すること、 指定された補正高さを使用して、補正した高さデータを計算すること、及び、 前記補正した高さデータに少なくとも部分的に基づいて、前記投影システムの前記焦点面に対して前記基板の前記ターゲット部分を配置すること を含み、 前記方法が、プロセススタックデータを入力することをさらに含み、前記指定された補正高さが、前記プロセススタックデータに少なくとも部分的に基づいて計算された補正高さである、方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20
FI (3件)：
H01L21/30 516A ,  H01L21/30 526B ,  G03F7/20 521
Fターム (11件)：
5F046BA03 ,  5F046CC01 ,  5F046CC04 ,  5F046CC05 ,  5F046DA05 ,  5F046DA14 ,  5F046DB04 ,  5F046DB05 ,  5F046DC12 ,  5F046FC04 ,  5F046FC05
引用特許：
審査官引用 (4件)
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